[發(fā)明專利]一種高發(fā)射率玻璃釉料以及由該釉料制備高發(fā)射率涂層的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510632090.0 | 申請日: | 2015-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN105502946B | 公開(公告)日: | 2017-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魯勝;張凡;劉斌;蘇力軍;李文靜;趙英民 | 申請(專利權(quán))人: | 航天特種材料及工藝技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | C03C8/14 | 分類號: | C03C8/14;C04B41/86 |
| 代理公司: | 北京五洲洋和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11387 | 代理人: | 劉春成 |
| 地址: | 100074 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 發(fā)射 玻璃 釉料 以及 制備 涂層 方法 | ||
1.一種釉料組合物,其特征在于:所述釉料組合物包含玻璃粉料、水和陶瓷分散劑;所述玻璃粉料、水和陶瓷分散劑的質(zhì)量比為1:2至4:0.01至0.02;
所述玻璃粉料包含熔融石英粉、特硬料玻璃粉、碳化硼粉、二硅化鉬粉、和黏土粉;所述玻璃粉料包含40質(zhì)量%至60質(zhì)量%的熔融石英粉、20質(zhì)量%至40質(zhì)量%的特硬料玻璃粉、4質(zhì)量%至15質(zhì)量%的碳化硼粉、3質(zhì)量%至8質(zhì)量%的二硅化鉬粉、和2質(zhì)量%至8質(zhì)量%的黏土粉;
或:所述玻璃粉料包含以下質(zhì)量比的原料:
熔融石英粉140、特硬料玻璃粉40、碳化硼粉20、二硅化鉬粉10、和黏土粉10。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于:
所述水為去離子水;和/或
所述陶瓷分散劑選自由聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、甲基纖維素、pH值為7的聚丙烯酸銨鹽、pH值為7的聚甲基丙烯酸銨鹽、吐溫-80、氨水、聚乙烯醇、聚乙二醇及聚全氟磺酸組成的組。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物,其特征在于:
所述陶瓷分散劑為pH為7的20質(zhì)量%的聚丙烯酸銨鹽水溶液。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的組合物,其特征在于:
所述玻璃粉料的粒徑等于或者小于300目。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的組合物,其特征在于:
所述釉料組合物通過將包含粒徑等于或者小于300目的玻璃粉料、去離子水和陶瓷分散劑的混合物于磨機(jī)中研磨24至48小時(shí),然后取出再過300目篩而制得。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的組合物,其特征在于:
所述磨機(jī)為球磨機(jī)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的組合物,其特征在于:
所述球磨機(jī)中的漿料體積與球磨小球的表觀體積控制為1:1。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的組合物,其特征在于:
所述球磨機(jī)的轉(zhuǎn)速控制為200至400rpm。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的組合物,其特征在于:
所述球磨小球?yàn)檠趸喦颍渲兄睆綖?cm、5mm、4mm、3mm、2mm、1mm的小球的質(zhì)量比為1:1:1:1:1:1。
10.一種在基體上制備釉料涂層的方法,其特征在于,所述方法采用權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的釉料組合物制備釉料涂層。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其特征在于,所述方法包括如下步驟:
(1)獲得所述釉料組合物;
(2)在基體的表面上涂布所述釉料組合物,形成釉料涂層;
(3)將所述釉料涂層烘干;以及
(4)將烘干的所述釉料涂層燒結(jié),由此在所述基體的表面上形成燒結(jié)釉料涂層。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,
所述步驟(2)至(4)進(jìn)行兩次或者更多次。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法,其特征在于,所述方法包括如下步驟:
(1)獲得所述釉料組合物;
(2)在基體的表面上涂布所述釉料組合物,形成第一釉料涂層;
(3)將所涂布的所述第一釉料涂層烘干;
(4)將烘干的第一釉料涂層燒結(jié),由此在所述基體的表面上形成第一燒結(jié)釉料涂層;
(5)在所述第一釉料涂層上進(jìn)一步涂布所述釉料組合物,形成第二釉料涂層;
(6)將所涂布的所述第二釉料涂層烘干;
(7)將烘干的第二釉料涂層燒結(jié),由此在所述基體上的第一釉料涂層的表面上形成第二燒結(jié)釉料涂層。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其特征在于:
涂布所述第一釉料涂層時(shí)的釉料組合物用量為0.01至0.10g/cm2;和/或
涂布所述第二釉料涂層時(shí)的釉料組合物用量為0.01至0.05g/cm2。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其特征在于:
涂布所述第一釉料涂層時(shí)的釉料組合物用量為0.06g/cm2;和/或
涂布所述第二釉料涂層時(shí)的釉料組合物用量為0.03g/cm2。
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