[發(fā)明專(zhuān)利]沖壓模具類(lèi)鉆碳鍍膜優(yōu)化參數(shù)的方法及應(yīng)用其的沖壓模具

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510624903.1
• 申請(qǐng)日: 2015-09-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106555163B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-10-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 簡(jiǎn)明德;林栢村
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 高雄第一科技大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35;C23C14/06
• 代理公司: 北京匯澤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11228
• 代理人: 毛廣杰

1.一種沖壓模具類(lèi)鉆碳鍍膜優(yōu)化參數(shù)的方法，適用于四靶源封閉式非平衡磁控制濺鍍法，并使用2個(gè)鉻靶、1個(gè)鈦靶及一個(gè)鋁靶對(duì)一基板進(jìn)行鍍膜，其特征在于，包含以下步驟：

進(jìn)行田口參數(shù)選擇，以定義數(shù)個(gè)功能性質(zhì)需求、并選擇適當(dāng)?shù)腻兡?shù)作為因子，且選取多個(gè)水平，該些功能性質(zhì)需求包含鍍膜附著性、摩擦系數(shù)和耐磨 耗力，該因子包含中介層、基板偏壓、鋁靶材電流、鉻靶材電流、鈦靶材電流、基板旋轉(zhuǎn)速度、氮?dú)饬髁考耙胰擦髁浚?/p>

依據(jù)該些功能性質(zhì)需求，分別以田口實(shí)驗(yàn)法獲得各個(gè)因子在不同水平下的功能量化數(shù)據(jù)；

利用田口實(shí)驗(yàn)法計(jì)算根據(jù)功能量化數(shù)據(jù)分析各組參數(shù)的信噪比，并由該些信噪比推論出其最佳組合，再進(jìn)行其參數(shù)優(yōu)化確認(rèn)實(shí)驗(yàn)，以得到包含該些功能的多目的優(yōu)化的鍍膜參數(shù)，并經(jīng)由田口實(shí)驗(yàn)法得到的優(yōu)化參數(shù)進(jìn)行各性質(zhì)的變異數(shù)分析算出各因子的貢獻(xiàn)度，由各貢獻(xiàn)度決定因子間影響程度；以及

分別根據(jù)各個(gè)功能性質(zhì)需求進(jìn)行參數(shù)優(yōu)化實(shí)驗(yàn)，并由參數(shù)優(yōu)化實(shí)驗(yàn)進(jìn)行多次的反復(fù)實(shí)驗(yàn)，再進(jìn)行前一步驟的檢測(cè)，以得到一田口穩(wěn)健化參數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沖壓模具類(lèi)鉆碳鍍膜優(yōu)化參數(shù)的方法，其特征在于，其中，該基板為高速鋼SKD11。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沖壓模具類(lèi)鉆碳鍍膜優(yōu)化參數(shù)的方法，其特征在于，其中，該基板在濺鍍前先進(jìn)行表面拋光及去除表面油污與臟物并使水分干燥。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沖壓模具類(lèi)鉆碳鍍膜優(yōu)化參數(shù)的方法，其特征在于，其中，該基板在濺鍍時(shí)，先對(duì)該基板進(jìn)行離子轟擊，以清潔并活化基板表面。

5.一種沖壓模具，其應(yīng)用權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)的沖壓模具類(lèi)鉆碳鍍膜優(yōu)化參數(shù)方法，制成具有碳氮化鈦鉻鋁鍍層的硬化膜表面的沖壓模具。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的沖壓模具，其特征在于，其中，在該沖壓模具表面濺鍍?cè)撎嫉併t鋁鍍層前，先于該沖壓模具表面濺鍍鉻或氮化鉻中介層。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的沖壓模具，其特征在于，其中，該碳氮化鈦鉻鋁鍍層的參數(shù)包含：該中介層為鉻或氮化鉻、基板偏壓-70V、鋁靶電流2A、鉻靶電流1.5A、基板轉(zhuǎn)速2rpm、氮?dú)饬髁?sccm、鈦電流2.5A、C₂H₂流量3.5sccm，其摩擦系數(shù)為0.13，附著力為56.705N。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的沖壓模具，其特征在于，其中，該碳氮化鈦鉻鋁鍍層的參數(shù)包含：中介層為鉻或氮化鉻、基板偏壓-70V、鋁靶電流2A、鉻靶電流1.5A、基板轉(zhuǎn)速2rpm、氮?dú)饬髁?sccm、鈦電流2A、C₂H₂流量3.5sccm。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的沖壓模具，其特征在于，其中，該碳氮化鈦鉻鋁鍍層的參數(shù)包含：中介層為鉻、基板偏壓0V、鋁靶電流1.5A、鉻靶電流2.5A、基板轉(zhuǎn)速2rpm、氮?dú)饬髁?5sccm、鈦電流2.5A、C₂H₂流量3.5sccm。