[發明專利]記錄介質有效
| 申請號： | 201510616917.9 | 申請日： | 2015-09-24 |
| 公開（公告）號： | CN105437814B | 公開（公告）日： | 2018-04-06 |
| 發明（設計）人： | 田中有佳;田栗亮;田中考利;小竹友和;杉浦喬;王珺 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | B41M5/50 | 分類號： | B41M5/50;B32B9/04 |
| 代理公司： | 北京魏啟學律師事務所11398 | 代理人： | 魏啟學 |
| 地址： | 日本東京都大*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 記錄 介質 | ||
【權利要求書】：
1.一種記錄介質，其依次包括：
基材；
第一墨接收層；和
作為最表層的第二墨接收層，
其特征在于，所述第一墨接收層包含平均粒徑為1.0μm以上的無定形二氧化硅，
所述第二墨接收層包含膠體二氧化硅，
所述第二墨接收層的表面的JIS B 0601:2001中規定的粗糙度輪廓單元的均方根斜率RΔq為0.3以上，和
所述第二墨接收層的涂布量是0.2g/m2以上且3.0g/m2以下。
2.根據權利要求1所述的記錄介質，其中所述基材是樹脂涂覆的基材。
3.根據權利要求1所述的記錄介質，其中所述無定形二氧化硅是濕法二氧化硅。
4.根據權利要求1所述的記錄介質，其中所述第二墨接收層的厚度為0.2μm以上且3.0μm以下。
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