[發明專利]一種基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法在審
| 申請號： | 201510596880.8 | 申請日： | 2015-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN105157629A | 公開（公告）日： | 2015-12-16 |
| 發明（設計）人： | 趙睿;閆小瑞;朱喆;楊麗琳;金浩星;林軍 | 申請（專利權）人： | 深圳市和勝金屬技術有限公司 |
| 主分類號： | G01B15/02 | 分類號： | G01B15/02 |
| 代理公司： | 深圳市君勝知識產權代理事務所 44268 | 代理人： | 王永文;劉文求 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市寶安*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 射線 光譜儀 測量 碳化 薄膜 厚度 方法 | ||
1.一種基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法，其特征在于，采用X-射線光譜儀對涂覆于模具表面的碳化釩薄膜的厚度進行測量。
2.根據權利要求1所述的基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法，其特征在于，測量之前包括：對碳化釩薄膜進行拋光并清潔處理。
3.根據權利要求2所述的基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法，其特征在于，所述拋光并清潔處理包括步驟：使用氣動工具或電動工具帶動羊毛輪/布輪結合鉆石研磨膏對被測碳化釩薄膜表面進行拋光，使碳化釩薄膜出現光亮表面，然后用模具清洗劑噴洗，并用干凈棉布擦干。
4.根據權利要求1所述的基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法，其特征在于，還包括：采用X-射線光譜儀對涂覆于模具表面的碳化釩薄膜的元素進行測量。
5.根據權利要求1所述的基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法，其特征在于，采用TD處理技術獲得所述碳化釩薄膜。
6.根據權利要求1所述的基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法，其特征在于，所述碳化釩薄膜的厚度在0~30μm的范圍內。
7.根據權利要求4所述的基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法，其特征在于，所述碳化釩薄膜的元素包括釩、碳、鈮和鉻。
8.根據權利要求1或4所述的基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法，其特征在于，測量時間為3~30秒。
9.根據權利要求8所述的基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法，其特征在于，測量時間為5秒、10秒、15秒或20秒。
10.根據權利要求1所述的基于X-射線光譜儀測量碳化釩薄膜厚度的方法，其特征在于，X-射線光譜儀由X-射線管和探測系統構成。
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