[發明專利]一種高譜分辨與寬譜測量范圍的透射光柵譜儀

有效

• 申請號: 201510596413.5
• 申請日: 2015-09-18
• 公開（公告）號: CN105067117B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 易濤;王傳珂;劉慎業;王保清;李晉;朱效立;謝長青
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: G01J3/28
• 分類號: G01J3/28
• 代理公司: 中國工程物理研究院專利中心51210
• 代理人: 翟長明,韓志英

1.一種高譜分辨與寬譜測量范圍的透射光柵譜儀，其特征在于，所述的透射光柵譜儀包括入射狹縫元件（2）、透射光柵元件（3）和條紋相機（4），所述的入射狹縫元件（2）、透射光柵元件（3）和條紋相機（4）在光路的z方向依次排布；所述的透射光柵元件（3）上包含低線對密度光柵（9）和高線對密度光柵（10）；所述的條紋相機（4）上包含光陰極狹縫元件（5）和光陰極元件（6），所述的光陰極狹縫元件（5）和光陰極元件（6）在光路的z方向依次排布；X射線源（1）產生的X射線經入射狹縫元件（2），透射光柵元件（3）色散，形成兩個分辨率不同的光譜，兩光譜在空間上錯位，經條紋相機（4）掃描后，獲得X射線光譜。

2.根據權利要求1所述的高譜分辨與寬譜測量范圍的透射光柵譜儀，其特征在于，所述的入射狹縫元件（2）固定于透射光柵元件（3）前，入射狹縫元件（2）上刻有狹縫A（7）和狹縫B（8），狹縫A（7）與狹縫B（8）寬度均為D₁；狹縫A（7）的長度大于低線對密度光柵（9）的長度，狹縫A（7）的中心與低線對密度光柵（9）的中心在z方向重合；狹縫B（8）的長度大于高線對密度光柵（10）的長度，狹縫B（8）的中心與高線對密度光柵（10）的中心在z方向重合。

3.根據權利要求1所述的高譜分辨與寬譜測量范圍的透射光柵譜儀，其特征在于，所述的低線對密度光柵（9）線對密度為1000到2000線對/毫米；高線對密度光柵（10）線對密度為2000到5000線對/毫米；低線對密度光柵（9）與高線對密度光柵（10）內側邊緣在x方向相距距離為X₀；低線對密度光柵（9）與高線對密度光柵（10）中心在y方向相距距離為Y₀。

4.根據權利要求1所述的高譜分辨與寬譜測量范圍的透射光柵譜儀，其特征在于，所述的光陰極狹縫元件（5）上刻有狹縫C（11）和狹縫D（12）；狹縫C（11）底端與狹縫D（12）頂端在y方向對稱，狹縫D（12）底端中心與高線對密度光柵（10）中心在z方向重合；狹縫C（11）與狹縫D（12）寬度相等，寬度值范圍為100~300微米；狹縫C（11）長度為Y₁，狹縫D（12）長度為Y₂；狹縫C（11）與狹縫D（12）內側邊緣沿x方向相距距離X₀。

5.根據權利要求1所述的高譜分辨與寬譜測量范圍的透射光柵譜儀，其特征在于，所述的光陰極元件（6）固定于光陰極狹縫元件（5）后且覆蓋光陰極狹縫；光陰極元件（6）的長度值是狹縫C（11）與狹縫D（12）長度之和，寬度值等于狹縫C、狹縫D及其內側邊緣沿x方向相距距離之和。