[發明專利]用于凈化流體的裝置和通過其凈化流體的方法

有效

• 申請號: 201510587923.6
• 申請日: 2015-09-15
• 公開（公告）號: CN105417635B
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 圖利奧·塞爾維達
• 申請（專利權）人: 伊德羅帕德爾園林清洗有限公司
• 主分類號: C02F1/46
• 分類號: C02F1/46
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王萍;陳煒

1.一種用于凈化流體的裝置，其特征在于包括：

-至少一個離子吸附單元，所述至少一個離子吸附單元被包含帶電粒子的至少一個第一操作流體穿過，所述至少一個離子吸附單元設置有在所述至少一個離子吸附單元內部限定的容置結構：

-至少一個操作室，所述至少一個操作室設置有入口開口和出口開口，所述至少一個第一操作流體易于流過所述入口開口和所述出口開口；

-至少一個排出室，所述至少一個排出室用于排出所述帶電粒子，至少一個第二操作流體流過所述至少一個排出室；

-所述至少一個操作室和所述至少一個排出室通過至少一個非離子選擇性過濾膜彼此分離；

-三維多孔電導體，所述三維多孔電導體容置在所述至少一個排出室中，所述三維多孔電導體具有厚度以及基本上片狀延伸，所述三維多孔電導體適于被所述至少一個第二操作流體沿著與所述片狀延伸平行的所述厚度在所述三維多孔電導體體積內部穿過；

-電力供給源；

-第一電極和第二電極，所述第一電極和所述第二電極通過置于其間的所述至少一個操作室和所述至少一個排出室而彼此分離，所述第一電極和所述第二電極能夠被所述電力供給源以相反極性供以電力，以便由于所述三維多孔電導體的屏蔽效果而在所述至少一個操作室中生成操作電場以及在所述至少一個排出室中生成具有低于所述操作電場的值的有限電場；

-包含在所述操作室中的帶電粒子易于在所述第一電極和所述第二電極生成的操作電場的作用下穿過所述非離子選擇性過濾膜，以及包含在所述操作室中的帶電粒子易于被所述至少一個排出室中的所述至少一個第二操作流體排出，在所述至少一個排出室中包含在所述操作室中的帶電粒子受到所述有限電場的作用；

-所述電力供給源易于以0.2Hz與10Hz之間的區間中包括的極性反轉頻率來周期性地反轉所述第一電極和所述第二電極的極性，以強制包含在所述至少一個操作室中的陽離子粒子和陰離子粒子通過所述至少一個非離子選擇性過濾膜進入同一所述至少一個排出室。

2.根據權利要求1所述的用于凈化流體的裝置，其特征在于，所述操作室中的至少一個操作室與所述第一電極或第二電極中的一個電極相鄰，并且被限定在所述第一電極或第二電極中的所述一個電極與至少一個所述排出室的所述非離子選擇性過濾膜中的一個非離子選擇性過濾膜之間。

3.根據權利要求2所述的用于凈化流體的裝置，其特征在于，所述裝置包括所述操作室中的至少兩個操作室，所述至少兩個操作室中的每個操作室與所述第一電極或第二電極中的一個電極相鄰，并且被限定在所述第一電極或第二電極中的所述一個電極與至少一個所述排出室的所述非離子選擇性過濾膜中的一個非離子選擇性過濾膜之間。

4.根據權利要求1所述的用于凈化流體的裝置，其特征在于，所述裝置包括至少一個第一操作室和至少一個第二操作室，所述至少一個第一操作室和至少一個第二操作室分別設置有：所述至少一個第一操作流體流過的第一入口開口和第二入口開口以及第一出口開口和第二出口開口；用于容納所述至少一個第一操作流體的至少一個第一壁和至少一個第二壁，所述至少一個第一壁和至少一個第二壁分別具有相關聯的所述第一電極和所述第二電極；用于排出所述陽離子粒子和/或所述陰離子粒子的所述至少一個排出室，所述至少一個排出室置于所述第一操作室和所述第二操作室之間并且設置有各自包括所述非離子選擇性過濾膜的第三壁和第四壁；連同所述第一壁和所述第二壁一起來分別對所述第一操作室和所述第二操作室劃界的所述第三壁和所述第四壁。

5.根據權利要求1所述的用于凈化流體的裝置，其特征在于，所述裝置包括至少一個第一排出室和至少一個第二排出室，每個排出室通過第三壁和第四壁劃界，每個排出室分別設置有：所述至少一個第二操作流體流過的第三入口開口和第三出口開口；所述第一排出室和所述第二排出室各自的至少所述第三壁，所述第三壁各自包括非離子選擇性過濾膜，并且在它們之間對在置于所述第一排出室和所述第二排出室之間的所述至少一個操作室劃界；

-所述第一電極和所述第二電極與所述第一排出室和所述第二排出室各自的第四壁相關聯。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的用于凈化流體的裝置，其特征在于，所述過濾膜選自微濾膜、超濾膜、納濾膜和反滲透膜。