[發明專利]曝光裝置及曝光方法

有效

• 申請號: 201510583920.5
• 申請日: 2006-06-28
• 公開（公告）號: CN105204303B
• 公開（公告）日: 2018-03-20
• 發明（設計）人: 日高康弘;長山匡
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司11019
• 代理人: 壽寧,張華輝

1.一種曝光裝置，利用通過投射光學系統投射圖案像，對襯底進行曝光，所述曝光裝置的特征在于：包括：

襯底夾具，保持所述襯底；

檢測裝置，檢測出修正量，所述修正量是用來相對于所述投射光學系統將所述襯底的表面進行定位；及

驅動裝置，基于所述修正量驅動所述襯底夾具，

所述檢測裝置包括：

投射系統，通過第一反射面，從傾斜方向對所述襯底夾具上的所述襯底的表面投射光束；

受光系統，包括第二反射面，接收被所述襯底的表面反射的所述光束；

控制系統，基于所述受光系統的輸出，導出所述修正量，

偏光變換構件，配置在所述光束的光路中從所述第一反射面到所述第二反射面的光路中，對通過所述第一反射面的所述光束的偏光成分的偏光方向，進行變換，

所述偏光變換構件對所述光束的偏光成分的偏光方向進行變換，以使相對于所述第一反射面的P偏光成分變成相對于所述第二反射面的S偏光成分，而相對于所述第一反射面的S偏光成分變成相對于所述第二反射面的P偏光成分。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：

所述偏光變換構件包含相位構件，所述相位構件在第一方向和第二方向之間切換所述光束的偏光方向。

3.根據權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于：

所述偏光變換構件包含旋光器。

4.根據權利要求1至3中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于：

所述驅動裝置驅動所述襯底夾具，以在所述投射光學系統的焦點深度的范圍內，對所述襯底的表面的至少一部分進行定位。

5.根據權利要求1至4中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于：

所述驅動裝置驅動所述襯底夾具，使與平行于所述投射光學系統的光軸的方向相關的所述襯底的表面的位置以及相對于所述光軸的所述襯底的傾斜的至少其中之一發生變化。

6.根據權利要求1至5中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于：

所述控制系統包含檢測部，所述檢測部基于所述受光系統的輸出，檢測出所述光束的橫向錯移量，其中所述橫向錯移量是基于與所述襯底表面的交差方向相關的所述襯底的表面的移動而生成的，且

基于由所述檢測部檢測出的所述橫向錯移量，導出所述修正量。

7.根據權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于：

所述受光系統包括光學系統，所述光學系統對所述襯底夾具上的所述襯底的表面形成實質上共軛的共軛面。

8.根據權利要求1至7中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于：

所述第一反射面和所述第二反射面是設置在棱鏡，以在所述棱鏡的內部反射所述光束。

9.根據權利要求1至8中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于：

所述第一反射面和所述第二反射面是將所述光束全反射。

10.一種曝光方法，利用通過投射光學系統投射圖案像，對襯底進行曝光，所述曝光方法的特征在于：包括：

通過襯底夾具，保持所述襯底；

檢測出修正量，所述修正量是用來相對于所述投射光學系統將所述襯底的表面進行定位；及

基于所述修正量驅動所述襯底夾具，

檢測所述修正量包括：

通過第一反射面，從傾斜方向對所述襯底夾具上的所述襯底的表面投射光束；

通過第二反射面，對被所述襯底的表面反射的所述光束進行反射；

基于經由第二反射面的所述光束的受光結果，導出所述修正量；及

通過配置在所述光束的光路中從所述第一反射面到所述第二反射面的光路中的偏光變換構件，對所述光束的偏光成分的偏光方向進行變換，以使相對于所述第一反射面的P偏光成分變成相對于所述第二反射面的S偏光成分，而相對于所述第一反射面的S偏光成分變成相對于所述第二反射面的P偏光成分。

11.根據權利要求10所述的曝光方法，其特征在于：

所述偏光變換構件包含相位構件，所述相位構件在第一方向和第二方向之間切換所述光束的偏光方向。

12.根據權利要求10或11所述的曝光方法，其特征在于：

所述偏光變換構件包含旋光器。