[發明專利]用于使用冷卻裝置向表面提供膜處理的系統及方法在審
| 申請號: | 201510581036.8 | 申請日: | 2015-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN105422283A | 公開(公告)日: | 2016-03-23 |
| 發明(設計)人: | S.埃卡納亞克;R.胡利;E.門多扎;A.I.西皮奧 | 申請(專利權)人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號: | F02C7/00 | 分類號: | F02C7/00;B08B3/08 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 嚴志軍;譚祐祥 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 使用 冷卻 裝置 表面 提供 處理 系統 方法 | ||
1.一種方法,包括:
使成膜劑與液體混合來形成成膜溶液,其中所述成膜劑包括硅氧烷、氟硅烷、氫硫基硅烷、氨基硅烷、四乙氧基硅烷、琥珀酐硅烷,或包括前述中的至少一個的組合;以及
使用入口空氣冷卻裝置將所述成膜溶液分配到表面上。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述表面為渦輪機表面或燃氣渦輪表面。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述表面為燃氣渦輪表面,其為外殼、導葉、葉片、轉子輪或渦輪中的至少一個。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述液體為去離子水。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述方法還包括以乙酸調整所述成膜溶液的pH。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述成膜溶液的pH為從大約5到大約9。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述入口空氣冷卻裝置為噴霧器。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述入口空氣冷卻裝置為蒸發冷卻器。
9.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述成膜劑包括硅氧烷、氟硅烷、氫硫基硅烷、氨基硅烷、四乙氧基硅烷或琥珀酐硅烷中的至少兩個的組合。
10.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述成膜劑將一個或更多個性質給予所述表面,所述一個或更多個性質包括被動性、疏水性、疏油性、抗粘性質,或包括前述中的至少一個的組合。
11.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述成膜劑使用與燃氣渦輪流體連通的快速斷開設備分配。
12.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括使非離子表面活性劑與所述成膜劑混合。
13.一種系統,包括:
處理器;以及
通信性地聯接于所述處理器的系統存儲器,所述系統存儲器具有儲存在其上的可執行指令,其在由所述處理器執行時,引起所述處理器執行操作,所述操作包括:
從傳感器接收數據;以及
基于從所述傳感器接收的數據提供指令來使用入口空氣冷卻裝置將成膜劑分配到表面上,其中所述成膜劑包括硅氧烷、氟硅烷、氫硫基硅烷、氨基硅烷、四乙氧基硅烷、琥珀酐硅烷或包括前述中的至少一個的組合。
14.根據權利要求13所述的系統,其特征在于,所述成膜劑包括硅氧烷、氟硅烷、氫硫基硅烷、氨基硅烷、四乙氧基硅烷或琥珀酐硅烷中的至少兩個的混合物。
15.一種成膜控制系統,包括:
構造成容納成膜劑的儲存罐;
入口空氣冷卻裝置;以及
在第一端上聯接于所述儲存罐并且在第二端上聯接于所述入口空氣冷卻裝置的供應導管;其中所述成膜控制系統構造成將所述成膜劑從所述儲存罐輸送并且通過所述空氣入口冷卻裝置排出所述成膜劑,并且所述成膜劑包括硅氧烷、氟硅烷、氫硫基硅烷、氨基硅烷、四乙氧基硅烷、琥珀酐硅烷或包括前述中的至少一個的組合。
16.根據權利要求15所述的成膜控制系統,其特征在于,所述成膜控制系統還包括與所述供應導管流體連通的第二儲存罐,其中所述第二儲存罐包含去離子水,并且其中所述去離子水在通過所述空氣入口冷卻裝置排出所述去離子水和所述成膜劑之前添加至所述成膜劑。
17.根據權利要求16所述的成膜控制系統,其特征在于,所述成膜控制系統還包括:
與待處理的表面連通的傳感器;
設置在所述供應導管內的閥和具有處理器和操作性地聯接于所述處理器的存儲器的控制器,所述存儲器具有可執行指令,其在由所述處理器執行時引起所述處理器執行操作,所述操作包括:
從所述傳感器接收信號并且響應于所述接收將指令提供至所述閥以開啟,以容許將所述去離子水和所述成膜劑通過所述入口空氣冷卻裝置排出到所述表面上。
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