[發明專利]空間靜電加速度計敏感結構表面的耐焊導電薄膜及制作工藝

有效

• 申請號: 201510576538.1
• 申請日: 2015-09-11
• 公開（公告）號: CN105154827B
• 公開（公告）日: 2017-11-03
• 發明（設計）人: 王佐磊;雷軍剛;席東學;霍紅慶;周海佳;銀東東;薛大同;邵航
• 申請（專利權）人: 蘭州空間技術物理研究所
• 主分類號: C23C14/14
• 分類號: C23C14/14;C23C14/34;C23C14/02
• 代理公司: 北京中恒高博知識產權代理有限公司11249
• 代理人: 劉洪京

1.一種空間靜電加速度計敏感結構表面的耐焊導電薄膜，其特征在于：由鈦膜層、鉑膜層和金膜層構成，鈦膜層一側與空間靜電加速度計敏感結構件的表面粘接，另一側面依次與鉑膜層和金膜層連接；

鈦膜層為40～60nm厚；鉑膜層為600nm～1000nm厚；金膜層為100～200nm厚。

2.一種如權利要求1所述耐焊導電薄膜的制作工藝，包括以下步驟：

⑴、控制空間靜電加速度計的敏感結構件表面粗糙度為0.025～0.1；

⑵、清洗敏感結構件：

1）利用表面活性劑對敏感結構件進行超聲清洗，時間≥20分鐘，去除機加及存儲過程中敏感結構件表面污染；

2）水反復沖洗2次；

3）用重鉻酸鉀+濃硫酸+去離子水浸泡≥1小時；

4）水反復沖洗2次；

5）丙酮、酒精反復超聲清洗≥2次，每次時間≥20分鐘；

6）干燥氮氣迅速干燥；

⑶、敏感結構件放入濺射鍍膜設備中進行濺射鍍膜。

3.如權利要求2所述制作工藝，其特征在于：該濺射鍍膜條件為：濺射鍍膜設備的本底真空度低于1×10^-3Pa，充入氬氣的工作真空度為0.01～0.1Pa，樣品臺轉速20～30轉/分鐘，靶材與樣品的距離控制在6～8cm。

4.如權利要求2或3所述制作工藝，其特征在于：濺射鍍膜前，采用濺射鍍膜設備離子清洗功能，對敏感結構件離子轟擊清洗5min，離子能量為100±10eV。

5.如權利要求4所述制作工藝，其特征在于：在正式對敏感結構件樣品沉積薄膜前，還包括對靶材進行預濺射清洗，清除靶材表面污染雜質，濺射的功率為1kW，濺射電壓為400～500V。

6.如權利要求5所述制作工藝，其特征在于：鈦膜層的沉積速率為20～30nm/min，鉑膜層和金膜層的沉積速率為50～100nm/min。