[發(fā)明專利]一種顯示基板及其制作方法和顯示面板

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510574883.1
• 申請(qǐng)日: 2015-09-10
• 公開（公告）號(hào): CN105137636A
• 公開（公告）日: 2015-12-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 譚紀(jì)風(fēng);陳立強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1333
• 分類號(hào): G02F1/1333
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板及其制作方法和顯示面板。

背景技術(shù)

隨著薄膜晶體管液晶顯示技術(shù)的發(fā)展和工業(yè)技術(shù)的進(jìn)步，液晶顯示技術(shù)已經(jīng)取代了陰極射線管技術(shù)顯示成為日常顯示領(lǐng)域的主流技術(shù)。由于液晶顯示器件生產(chǎn)成本降低、制造工藝的日益完善，其本身所具有的優(yōu)點(diǎn)，在市場(chǎng)和消費(fèi)者心中成為理想的顯示器件。目前市場(chǎng)上立體顯示技術(shù)日益興起，故而解決立體顯示技術(shù)上的技術(shù)缺點(diǎn)，改善成像質(zhì)量(如減小色偏，減少亮點(diǎn)、亮線，降低立體串?dāng)_，畫面閃爍，增大可視角度等)也變的日益重要。

薄膜晶體管液晶顯示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，縮寫為TFT-LCD)包括陣列基板、對(duì)盒基板以及位于陣列基板和對(duì)盒基板之間的液晶層。陣列基板中設(shè)置有相互交叉的柵掃描線和數(shù)據(jù)線，柵掃描線和數(shù)據(jù)線分別被用作傳輸掃描驅(qū)動(dòng)信號(hào)和圖像數(shù)據(jù)信號(hào)，來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)液晶分子偏轉(zhuǎn)的控制，從而進(jìn)一步控制光線的強(qiáng)弱，在對(duì)盒基板的共同作用下，實(shí)現(xiàn)圖像的顯示。

在LCD的制造工藝中，需要對(duì)陣列基板1與對(duì)盒基板2對(duì)盒以形成的一整塊較大的面板上的指定位置進(jìn)行切剖，進(jìn)而形成一個(gè)個(gè)獨(dú)立的液晶盒，為顯露出陣列基板1上的PAD區(qū)域101，需將對(duì)盒基板2與其對(duì)應(yīng)的區(qū)域均切割掉。如圖1所示，沿切割線A切割陣列基板1及對(duì)盒基板2，形成獨(dú)立的液晶盒，再沿對(duì)盒基板切割線B切割對(duì)盒基板2，以顯露出陣列基板1的PAD區(qū)域101。

當(dāng)前一般采用刀輪切割工藝或激光切割工藝進(jìn)行對(duì)盒切割。由于刀輪切割工藝會(huì)導(dǎo)致切割邊緣不整齊(參見圖2)，且切割的廢材還可能對(duì)臨近的PAD區(qū)域101的數(shù)據(jù)線造成直接損傷，因此目前較多的采用激光切割工藝。但是，在使用激光切割時(shí)，由于機(jī)臺(tái)不平整、激光強(qiáng)度大等因素，可能會(huì)造成激光脈沖的不穩(wěn)定，進(jìn)而造成陣列基板PAD區(qū)域金屬線被灼傷的情況(參見圖3)，如若減小激光強(qiáng)度，則可能會(huì)造成有的區(qū)域不能被完全切割問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板及其制作方法和顯示面板，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中使用激光切割技術(shù)進(jìn)行對(duì)盒切割時(shí)所導(dǎo)致的PAD區(qū)域金屬線被損壞的問(wèn)題。

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種所述顯示基板，所述顯示基板包括襯底基板，設(shè)置在所述襯底基板上的顯示區(qū)域、PAD區(qū)域，所述顯示基板還包括至少覆蓋與對(duì)盒基板的切割線對(duì)應(yīng)的切割區(qū)域的緩沖層，用于防止在切割的過(guò)程中激光對(duì)PAD區(qū)域的金屬線受到損壞；其中，所述切割區(qū)域?yàn)樗鲲@基板上與所述切割線對(duì)應(yīng)位置兩側(cè)預(yù)設(shè)范圍內(nèi)的區(qū)域。

本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板中，所述顯示基板包括襯底基板，設(shè)置在所述襯底基板上的顯示區(qū)域、PAD區(qū)域，所述顯示基板還包括至少覆蓋與對(duì)盒基板的切割線對(duì)應(yīng)的切割區(qū)域的緩沖層，用于防止在切割的過(guò)程中激光對(duì)PAD區(qū)域的金屬線受到損壞；其中，所述切割區(qū)域?yàn)樗鲲@基板上與所述切割線對(duì)應(yīng)位置兩側(cè)預(yù)設(shè)范圍內(nèi)的區(qū)域。由于該顯示基板在切割區(qū)域的上方設(shè)置有緩存層，所述緩存層可以防止在切割的過(guò)程中激光對(duì)PAD區(qū)域的金屬線受到損壞，對(duì)所述PAD區(qū)域的金屬線起到保護(hù)作用，使得在切割過(guò)程中可適當(dāng)增大激光的強(qiáng)度，解決現(xiàn)有技術(shù)中因激光強(qiáng)度過(guò)大而導(dǎo)致的PAD區(qū)域的金屬線被灼傷的問(wèn)題。

較佳的，所述緩沖層包括多層交替設(shè)置的高折射率材料層和低折射率材料層。

由于多層高折射率材料層和低折射率材料層交替設(shè)置時(shí)具有良好的反射作用，因此可使得照射到與PAD區(qū)域的激光大部分甚至全部被反射掉，從而達(dá)到避免PAD區(qū)域的金屬線被激光情況。

較佳的，所述緩沖層中高折射率材料層和低折射率材料層的總層數(shù)為5～20層，每層高折射率材料層或低折射率材料層的厚度為20～80nm。

當(dāng)所述緩沖層中高折射率材料層和低折射率材料層的總層數(shù)為5～20層，每層高折射率材料層或低折射率材料層的厚度為20～80nm時(shí)，該緩沖層具有良好的反光效果，能夠?qū)AD區(qū)域的激光大部分甚至全部被反射掉，同時(shí)也不會(huì)應(yīng)為膜層厚度太大而影響對(duì)盒質(zhì)量。

較佳的，所述高折射率材料包括：氧化鎂、氮化硅、五氧化二鉭、氧化鋅和二氧化鈦中的一種或多種；所述低折射率材料包括：氟化鎂、氧化硅、三氧化二硅和氮化鈦中的一種或多種。

較佳的，所述緩沖層包括交替設(shè)置的4個(gè)氮化硅層和4個(gè)氧化硅層。

所述4個(gè)氮化硅層和4個(gè)氧化硅層交替設(shè)置時(shí)即可達(dá)到將PAD區(qū)域的激光大部分甚至全部被反射掉的效果，且氮化硅和氧化硅層價(jià)格低廉、層結(jié)構(gòu)制作工藝簡(jiǎn)單，有利于提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本。