[發(fā)明專利]一種低成本的硅基模塊的封裝結(jié)構(gòu)及其封裝方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510570532.3 | 申請日: | 2015-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN105118817B | 公開(公告)日: | 2017-09-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張黎;龍欣江;賴志明;陳棟;陳錦輝 | 申請(專利權(quán))人: | 江陰長電先進(jìn)封裝有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/485 | 分類號: | H01L23/485;H01L23/488;H01L21/60 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司32200 | 代理人: | 趙華 |
| 地址: | 214429 江蘇省無錫市江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 低成本 模塊 封裝 結(jié)構(gòu) 及其 方法 | ||
1.一種低成本的硅基模塊的封裝結(jié)構(gòu)的封裝方法,其工藝流程如下:
步驟一:取硅圓片Ⅰ,其電極露出鈍化層開口,清洗該硅圓片Ⅰ;
步驟二:在硅圓片Ⅰ的電極的上表面化學(xué)鍍鎳/金層或者在硅圓片Ⅰ的電極的上表面通過物理氣相沉積方法形成鈦或鈦鎢金屬層,在鈦或鈦鎢金屬層的表面形成金屬柱及其頂部的焊料凸點(diǎn),再去除金屬柱周邊無效的鈦或鈦鎢金屬層;
步驟三:減薄硅圓片Ⅰ的背面厚度;
步驟四:在減薄后的硅圓片Ⅰ的背面通過電子束蒸發(fā)工藝形成金屬層;
步驟五:切割硅圓片Ⅰ,形成復(fù)數(shù)顆獨(dú)立的硅基芯片單體;
步驟六:另取一上表面覆蓋絕緣層的硅圓片Ⅱ,清洗該硅圓片Ⅱ;
步驟七:在該硅圓片Ⅱ的絕緣層的表面利用成熟的金屬再布線工藝形成不連續(xù)的再布線金屬層,其中部分再布線金屬層分別作為焊盤Ⅰ、焊盤Ⅱ、焊盤Ⅲ、焊盤Ⅳ使用;
步驟八:在焊盤Ⅲ、焊盤Ⅳ上植金屬芯焊球;
步驟九:在焊盤Ⅰ、焊盤Ⅱ上印刷焊膏;
步驟十:將硅基芯片單體有序地倒裝至焊盤Ⅰ、焊盤Ⅱ上,并回流固定硅基芯片單體;
步驟十一:在硅圓片Ⅱ的邊緣設(shè)置圍壩,圍壩的頂高不低于硅基芯片單體的背面的金屬層的高度;
步驟十二:在圍壩內(nèi)點(diǎn)填充劑,填充劑的平面不高于硅基芯片單體的背面的金屬層的高度;
步驟十三:撤圍壩,并將完成封裝工藝的上述硅圓片Ⅱ切割成復(fù)數(shù)顆獨(dú)立的低成本的硅基模塊的封裝結(jié)構(gòu)單體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低成本的硅基模塊的封裝結(jié)構(gòu)的封裝方法,其特征在于:在步驟四中,所述金屬層的材質(zhì)為三層結(jié)構(gòu)的鈦/鎳/金或鈦/鎳/銀。
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