[發明專利]一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜制備方法有效
| 申請號： | 201510564580.1 | 申請日： | 2015-09-08 |
| 公開（公告）號： | CN105344348A | 公開（公告）日： | 2016-02-24 |
| 發明（設計）人： | 隋美蓉 | 申請（專利權）人： | 徐州醫學院 |
| 主分類號： | B01J23/22 | 分類號： | B01J23/22;B01J37/34;B01J35/06;C01G31/00 |
| 代理公司： | 徐州支點知識產權代理事務所(普通合伙) 32244 | 代理人： | 劉新合 |
| 地址： | 221000 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 可見 光催化 特性 bivo sub 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜制備方法，其特征在于：采用水熱法制備出BiVO4粉末，再采用電泳沉積方法得到BiVO4膜層，隨后，對BiVO4膜層進行熱處理。
2.根據權利要求1所述的一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜材料的制備方法，其特征在于：所述的水熱法制備出BiVO4粉末，是在高壓反應釜中進行的，反應原料為Bi(NO3)2、NH4VO3和去離子水。
3.根據權利要求1所述的一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜的制備方法，其特征在于，構成光陽極核心部分的BiVO4膜層是采用電泳沉積方法得到的，前驅體為BiVO4懸濁液，使用有機溶劑進行分散，電泳沉積電壓10-40V，電泳時間1-60min。
4.根據權利要求1所述的一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜制備方法，其特征在于，制備BiVO4膜層采用的基底是ITO、FTO導電玻璃、Ti片或者Si單晶基片中任意的一個。
5.根據權利要求1所述的一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜制備方法，其特征在于：需對制備好的BiVO4膜層進行煅燒，煅燒溫度300~800℃。
6.根據權利要求5所述的一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜制備方法，其特征在于，所述的煅燒時間為30min至7h。
7.根據權利要求5所述的一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜制備方法，其特征在于，所述的煅燒氣氛是真空、空氣以及N2或者Ar氣保護氣氛中的任意一個。
8.根據權利要求2所述的一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜制備方法，其特征在于，水熱法制備出BiVO4粉末過程中，水熱合成反應溫度為180~220℃，反應時間為15~24h。
9.根據權利要求3所述的一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜制備方法，其特征在于，所述的有機溶劑為異丙醇或丙酮。
10.一種具有可見光催化特性的BiVO4薄膜，其特征在于，使用如權利要求1至9任意一種方法制備出的BiVO4薄膜材料。
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