[發明專利]光罩檢查機和光罩檢查方法

在審

• 申請號: 201510556447.1
• 申請日: 2015-09-01
• 公開（公告）號: CN105093820A
• 公開（公告）日: 2015-11-25
• 發明（設計）人: 張賀
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F1/84
• 分類號: G03F1/84;G01N21/94
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

技術領域

本發明涉及光罩檢查技術領域，尤其涉及一種光罩檢查機和一種光罩檢查方法。

背景技術

光罩檢查機，英文名MaskCleaner，該設備可以夾持光罩，用強光燈檢查光罩上的微粒(Particle)，同時，用氣槍進行清潔，防止微粒存在造成光罩損傷(MaskDefect)。

因放置光罩檢查機的房間面積有限，大多放置光罩存儲柜，所以光罩檢查機占地面積越小，放置光罩檢查機的房間利用率越高；同時，光罩正面和背面都需要進行微粒清潔，則要求設備能力清潔范圍越大越好；此外，生產條件對光罩清潔度及品質要求非常高，不可出現任何擦痕和損傷，否則該光罩將無法使用，會影響整個工廠的生產，該限制條件則要求設備方便操作，降低人員誤碰觸光罩的風險。

目前業內傳統的光罩檢查機大致有兩類：一類承載光罩直上直下式，該類設備占地面積小，放置光罩檢查機的房間利用率高，但該類設備僅能在水平方向檢查光罩，清潔范圍有限，且操作人員容易碰觸到光罩，損傷光罩風險大；另一類光罩檢查機帶有翻轉機構，可近360度翻轉，人員操作方便，清潔范圍廣，但需設計專門的過渡小車及導軌，光罩從推車轉移到過渡小車、過渡小車通過導軌運行到翻轉機構下方，過渡小車將光罩上移到鄰近翻轉機構的位置，再與翻轉機構進行光罩交換，設備占地面積較大，放置光罩檢查機的房間利用率變低，且安裝光罩和卸載光罩的時間都較長，增加了光罩清理工序的耗時。

發明內容

本發明所要解決的技術問題在于提供一種占地面積小、清潔范圍大的光罩檢查機和光罩檢查方法。

為了實現上述目的，本發明實施方式采用如下技術方案：

一方面，提供一種光罩檢查機，所述光罩檢查機包括機架、翻轉機構、承載機構和升降軌，所述機架包括第一位置和第二位置，所述翻轉機構轉動連接在所述機架之所述第一位置處，所述升降軌固定于所述機架，且所述升降軌從所述第一位置延伸至所述第二位置，所述承載機構滑動連接于所述升降軌，所述承載機構通過所述升降軌在所述第一位置與所述第二位置之間移動。

優選的，所述機架包括彼此相對間隔設立的兩個支架，每個所述支架之面對另一個所述支架的表面為所述機架的安裝面，所述升降軌包括至少一對分別固定在所述兩個安裝面上的軌道。

優選的，所述翻轉機構包括翻轉框及若干個光罩夾持件，所述若干個光罩夾持件均勻分布在所述翻轉框四周，所述翻轉框轉動連接在所述機架之所述兩個支架之間。

優選的，所述翻轉框上鄰近所述兩個支架的兩個側面為固定面，每個所述固定面的中部均設有凸出的旋轉軸，每個所述支架的上部均設有凹部，每個所述旋轉軸分別插入對應的所述凹部且相對于所述凹部轉動。

優選的，所述翻轉框上鄰近所述兩個支架之所述安裝面的兩個側面為固定面，每個所述固定面的中部均設有凹部，每個所述支架的上部均設有旋轉軸，每個所述凹部分別套設在對應的所述旋轉軸外且相對于所述旋轉軸轉動。

優選的，所述承載機構包括承載部、定位部和移動部，所述承載部上表面為水平的承載平面，所述定位部設置在所述承載平面上，所述移動部設置在所述承載部靠近所述支架的所述安裝面的側面上，所述側面垂直于所述承載平面，所述移動部連接所述升降軌且沿所述升降軌在所述第一位置與所述第二位置之間移動。

優選的，所述承載部包括分別連接在兩個所述支架上的兩個子承載部，所有所述子承載部的上表面公共構成所述承載部之所述承載平面。

優選的，所述承載機構還包括驅動裝置、定位傳感裝置和控制器，所述驅動裝置驅動所述承載機構通過所述升降軌在所述第一位置與所述第二位置之間移動，所述定位傳感裝置檢測所述承載機構位置并將信號反饋給所述控制器，所述控制器處理所述信號并控制所述驅動裝置從而控制承載機構的停留位置。

優選的，所述第二位置位于所述第一位置正下方。

另一方面，還提供一種光罩檢查方法，采用如上任一項所述的光罩檢查機，檢查步驟如下：

放置光罩至所述承載機構；

所述承載機構沿所述升降軌從所述第二位置移動至所述第一位置，安裝所述光罩至所述翻轉機構上，所述承載機構沿所述升降軌從所述第一位置移動至所述第二位置；

轉動所述翻轉機構，檢查所述光罩；

檢查完成后，所述承載機構沿所述升降軌從所述第二位置移動至所述第一位置，放置所述光罩至所述承載機構上，所述承載機構沿所述升降軌從所述第一位置移動至所述第二位置；

取出所述光罩。

相較于現有技術，本發明具有以下有益效果：