[發明專利]常壓爐管生長的薄膜厚度的控制方法

有效

• 申請號: 201510546241.0
• 申請日: 2015-08-31
• 公開（公告）號: CN105200399B
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 祁鵬;王智;蘇俊銘
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: C23C16/52
• 分類號: C23C16/52;H01L21/283
• 代理公司: 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 吳世華;陳慧弘

1.一種常壓爐管生長的薄膜厚度的控制方法，其特征在于，包括：

檢測得到全年大氣壓力變化趨勢；

將所述全年大氣壓力變化趨勢分成若干不同的壓力范圍區間；不同的壓力范圍區間在選取的時候有一定的重疊；

然后，根據常壓爐管生長的薄膜厚度與全年的大氣壓力的變化關系來確定：每個所述壓力范圍區間內薄膜的生長時間，以使薄膜達到目標厚度；其中，通過分析薄膜的厚度與大氣壓力的關系擬合成的線性關系圖，根據實際的大氣壓力，對應得到線性關系圖中對應的薄膜厚度，該薄膜厚度和目標厚度具有差異，根據目標厚度和該薄膜厚度的差異來計算在實際大氣壓力下達到目標厚度所需的生長時間；

按照所設定的時間在常壓爐管中生長薄膜。

2.根據權利要求1所述的控制方法，其特征在于，將所述全年大氣壓力變化趨勢按照從小到大的順序分成三個壓力范圍區間。

3.根據權利要求2所述的控制方法，其特征在于，所述三個壓力范圍區間分別為740～756torr，750～767torr，以及760～780torr。

4.根據權利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述薄膜為柵極氧化層。

5.根據權利要求1所述的控制方法，其特征在于，按照所設定的時間在常壓爐管中生長薄膜后，所得到的薄膜的厚度在全年大氣壓力變化下的差異小于0.1nm。

6.根據權利要求1所述的控制方法，其特征在于，以一定的時間間隔來多次檢測得到全年大氣壓力變化趨勢。