[發明專利]曝光方法及曝光裝置、以及元件制造方法有效
| 申請號: | 201510542536.0 | 申請日: | 2010-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN105182695B | 公開(公告)日: | 2018-01-30 |
| 發明(設計)人: | 柴崎祐一 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038 | 代理人: | 馬景輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 方法 裝置 以及 元件 制造 | ||
1.一種透過投影光學系統以照明光使基板曝光的曝光裝置,其包括:
機體,具有支承該投影光學系統的主機架;
檢測系統,從該投影光學系統分離且被支承于該主機架,檢測該基板的位置信息;
基座,配置于該投影光學系統與該檢測系統的下方;
載臺,具有保持該基板的保持裝置,且配置于該基座上;
驅動系統,具有一部分設于該載臺的馬達,在該基座上移動該載臺,以使該基板分別與該投影光學系統與該檢測系統相對配置;
第1測量板,具有分別形成反射型光柵的四個第1區域,以使該四個第1區域與既定面平行且被配置于該投影光學系統的下端側的方式被支承于該主機架;
第2測量板,具有分別形成反射型光柵的四個第2區域,以使該四個第2區域與該既定面平行且被配置于該檢測系統的下端側的方式被支承于該主機架;
編碼器系統,具有設于該載臺的四個讀頭,透過該四個讀頭將光束分別自下方照射該第1測量板或該第2測量板以測量該載臺的位置信息;以及
控制系統,根據該編碼器系統所測量的位置信息控制該驅動系統;
該編碼器系統,于該基板的曝光步驟中測量配置于該第1測量板下方的該載臺的位置信息,并且在藉由該檢測系統對該基板的檢測步驟中測量配置于該第2測量板下方的該載臺的位置信息;
在該曝光步驟中該載臺的移動區域,包含藉由從該四個讀頭逐一去除彼此不同的讀頭的四組三個讀頭分別測量該位置信息的四個座標系;
藉由在該移動區域內的該載臺的移動,代替該四個座標系的一個座標系,測量在該四個座標系之中與該一個座標系不同的座標系中的該載臺的位置信息;
該控制系統,使用在該四個讀頭分別與該四個第1區域相對的該載臺的移動區域的一部分藉由該編碼器系統所測量的位置信息,取得用來補償因該四個第1區域的偏移所產生的該一個座標系與該不同的座標系的位置誤差的修正信息;
該修正信息,用于代替在該一個座標系所使用的三個讀頭對該載臺的驅動控制,而以該不同的座標系所使用的三個讀頭對該載臺進行驅動控制。
2.如權利要求1所述的曝光裝置,其中,該四個讀頭在與該四個區域分別相對的該移動區域的一部分,代替在該一個座標系所使用的三個讀頭對該載臺的驅動控制,而以該不同的座標系所使用的三個讀頭對該載臺進行驅動控制。
3.如權利要求1所述的曝光裝置,其中,該修正信息,包含用來補償起因于在該四個座標系分別用于該位置信息的測量的三個讀頭的組合不同所產生的該四個座標系的相對移位的偏移。
4.如權利要求1所述的曝光裝置,其中,該修正信息,包含用來補償在該移動區域的一部分的該載臺的從在該一個座標系所使用的三個讀頭所得到的位置信息、與從在該不同的座標系所使用的三個讀頭所得到的位置信息的差的偏移。
5.如權利要求1所述的曝光裝置,其中,該編碼器系統,在該移動區域之中與該一部分不同的區域,藉由該四組三個讀頭的任一組測量該載臺的位置信息。
6.如權利要求1-5中任一項所述的曝光裝置,其中,該編碼器系統,代替在該一個座標系所使用的三個讀頭中的一個讀頭,使用在該四個讀頭之中與在該一個座標系所使用的三個讀頭不同的另一個讀頭,并且藉由該另一個讀頭、與在該一個座標系所使用的三個讀頭之中除了該一個讀頭以外的兩個讀頭的三個讀頭,測量在該不同的座標系的該載臺的位置信息。
7.如權利要求6所述的曝光裝置,其中,根據在該一個座標系所使用的三個讀頭所測量的位置信息,使用該另一個讀頭取得用來控制該載臺的驅動的該編碼器系統的接續信息。
8.如權利要求7所述的曝光裝置,其中,該接續信息是當該載臺位于該移動區域的一部分的期間取得的。
9.如權利要求6所述的曝光裝置,其中,該基板被進行掃描曝光;
從該一個讀頭往該另一個讀頭的切換,是在該照明光照射于該基板的掃描曝光期間以外進行的。
10.如權利要求6所述的曝光裝置,其中,從該一個讀頭往該另一個讀頭的切換,是在該載臺等速移動期間以外進行的。
11.如權利要求1-5中任任一項所述的曝光裝置,其中,該編碼器系統,測量包含在該既定面內彼此正交的第1方向、第2方向、及與該既定面正交的第3方向的6自由度方向的該載臺的位置信息。
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