[發明專利]一種CIGS基薄膜太陽能電池及其制備方法有效
| 申請號: | 201510540824.2 | 申請日: | 2015-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN105244394B | 公開(公告)日: | 2017-12-08 |
| 發明(設計)人: | 李藝明;鄧國云 | 申請(專利權)人: | 廈門神科太陽能有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0392 | 分類號: | H01L31/0392;H01L31/0216;H01L31/065;H01L31/18 |
| 代理公司: | 廈門市首創君合專利事務所有限公司35204 | 代理人: | 張松亭,游學明 |
| 地址: | 361000 福建省廈門市*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 cigs 薄膜 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種CIGS基薄膜太陽能電池,其特征在于:包括襯底,覆蓋襯底的背電極層,覆蓋背電極層的合金膜層,覆蓋合金膜層的p型光吸收層,覆蓋p型光吸收層的緩沖層,覆蓋緩沖層的透明導電層;其中,所述合金膜層由銀、鉑、鉻中的至少一種元素與鎵和銻元素組成;所述合金膜層的厚度不大于200nm。
2.根據權利要求1所述的一種CIGS基薄膜太陽能電池,其特征在于:所述合金膜層中銻的含量至少為50at%。
3.根據權利要求1所述的一種CIGS基薄膜太陽能電池,其特征在于:所述合金膜層的厚度不大于100nm。
4.根據權利要求1所述的一種CIGS基薄膜太陽能電池,其特征在于:所述p型光吸收層為p型銅銦鎵硒、p型銅銦鎵硫、p型銅銦鎵硒硫、p型銅銦鎵鋁硒、p型銅銦鎵鋁硫、p型銅銦鎵鋁硒硫、p型銅銦鋁硒硫、p型銅銦鋁硒、p型銅銦鋁硫、p型銅銦硒硫、p型銅銦硫或p型銅銦硒中的一種,所述p型光吸收層中含有堿元素。
5.根據權利要求1所述的一種CIGS基薄膜太陽能電池,其特征在于:在緩沖層與透明導電層之間插入一層具有高電阻率的氧化鋅膜層,所述具有高電阻率的氧化鋅膜層選自本征氧化鋅膜層、具有電阻率為0.08Ωcm至95Ωcm的摻雜氧化鋅膜層或它們的組合。
6.根據權利要求1所述的一種CIGS基薄膜太陽能電池,其特征在于:在基板與背電極層之間插入一層電介質材料層;所述電介質材料層選自氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氮化鈦、氧化鈦、氮氧化鈦、氮氧化鋯、氧化鋯、氮化鋯、氮化鋁、氧化鋁、氧化硅鋁、氮化硅鋁、氮氧化硅鋁、鋅錫氧化物或它們的混合物;所述電介質材料層或由硅、鋯和鈦中的至少一種元素與鉬組成的至少兩種元素的氧化物、氮化物或氮氧化物組成;當基板為玻璃基板時,所述電介質材料層由一含有Li、K中至少一種元素的堿過濾層替代,該堿過濾層包含Li、K中的至少一種元素和Si、Al、O三種元素。
7.一種CIGS基薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于:在一襯底上沉積背電極層,在背電極層上真空沉積合金膜層,在合金膜層上形成p型光吸收層,在p型光吸收層上沉積緩沖層,在緩沖層上沉積透明導電層;所述合金膜層由銀、鉑、鉻中的至少一種元素與鎵和銻元素組成,所述合金膜層的厚度不大于200nm。
8.根據權利要求7所述的一種CIGS基薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于:使用磁控濺射法沉積背電極層;使用磁控濺射法或真空蒸鍍法沉積合金膜層;使用磁控濺射后硒化工藝、共蒸發工藝、反應濺射沉積工藝或直接濺射沉積工藝制備p型光吸收層;使用化學水浴法、濺射法或者MOCVD法沉積緩沖層;使用磁控濺射法或者真空蒸鍍法沉積透明導電窗口層。
9.根據權利要求7所述的一種CIGS基薄膜太陽能電池的制備方法,其特征在于:所述p型光吸收層為p型銅銦鎵硒、p型銅銦鎵硫、p型銅銦鎵硒硫、p型銅銦鎵鋁硒、p型銅銦鎵鋁硫、p型銅銦鎵鋁硒硫、p型銅銦鋁硒硫、p型銅銦鋁硒、p型銅銦鋁硫、p型銅銦硒硫、p型銅銦硫或p型銅銦硒中的一種,所述p型光吸收層中含有堿元素。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





