[發(fā)明專利]用以增加通孔刻蝕率的光圖案法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510540103.1 | 申請日： | 2015-08-28 |
| 公開（公告）號： | CN106257657B | 公開（公告）日： | 2020-12-11 |
| 發(fā)明（設計）人： | 穆政昌;林正偉;劉光文 | 申請（專利權）人： | 旺宏電子股份有限公司 |
| 主分類號： | H01L23/48 | 分類號： | H01L23/48;H01L21/768 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 任巖 |
| 地址： | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用以 增加 刻蝕 圖案 | ||
【權利要求書】：
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