[發明專利]基于金剛石印壓成形的正反雙面微納結構及其陣列的制備方法在審
| 申請號： | 201510528486.0 | 申請日： | 2015-08-21 |
| 公開（公告）號： | CN105195586A | 公開（公告）日： | 2015-12-30 |
| 發明（設計）人： | 石廣豐;史國權;于占江;蔡洪彬 | 申請（專利權）人： | 長春理工大學 |
| 主分類號： | B21D22/04 | 分類號： | B21D22/04;B21D37/00;B21D37/01 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 130022 吉林*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 金剛 石印 成形 正反 雙面 結構 及其 陣列 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.基于金剛石印壓成形的正反雙面微納結構及其陣列的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
S1、根據需要，選取金剛石壓頭、延塑性金屬片和軟基底材料，并將軟基底材料附著在延塑性金屬片下底面；
S2、形成金剛石壓頭和附著有軟基底材料的延塑性金屬片之間的相對下壓運動Z，通過控制下壓量和壓頭軸線相對于工件平面的垂直度(偏角A)來控制微納結構的成形尺度和質量；
S3、形成金剛石壓頭和附著有軟基底材料的延塑性金屬片之間的相對水平運動X、Y，反復重復步驟S2，直至完成微納結構陣列的印壓成形；
S4、脫離金剛石壓頭和柔性基底，在延塑性金屬片正反雙面上實現微納結構及其陣列的制備。
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