[發明專利]一種微模具的復合加工方法

有效

• 申請號: 201510526489.0
• 申請日: 2015-08-25
• 公開（公告）號: CN105108251B
• 公開（公告）日: 2018-01-05
• 發明（設計）人: 陳兢;陳獻;宋璐
• 申請（專利權）人: 蘇州含光微納科技有限公司
• 主分類號: B23H5/04
• 分類號: B23H5/04
• 代理公司: 北京君尚知識產權代理事務所(普通合伙)11200
• 代理人: 余長江

1.一種具有高表面質量的微模具的復合加工方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)對于微模具圖形的外圍區域，采用機械切削加工方式去除多余材料，以減小后續微細電火花加工的放電面積，并定義微模具的圖形區域輪廓；所述采用機械切削加工方式去除多余材料，首先利用機械銑削加工快速去除微模具圖形外圍的多余材料，然后進行機械磨削加工以提高表面質量；

2)對于微模具圖形區域，利用鎢工具電極進行微細電火花加工，實現微模具圖形的精確轉移。

2.如權利要求1所述的具有高表面質量的微模具的復合加工方法，其特征在于，在步驟1)進行機械切削加工的同時，利用等離子體刻蝕技術制備與微模具圖形互補的鎢微細電極，通過機械切削加工與鎢微細電極制備工藝同時進行來縮短微模具的制備周期。

3.如權利要求1所述的具有高表面質量的微模具的復合加工方法，其特征在于，步驟2)所述鎢工具電極采用等離子體刻蝕技術制備，其步驟如下：

a)在鎢基片表面濺射硬掩膜；

b)在硬掩膜上涂覆光刻膠，并對光刻膠進行曝光和顯影，完成光刻膠的圖形化；

c)將光刻膠作為掩膜，對硬掩膜進行干法刻蝕，實現掩膜圖形化的轉移；

d)去除硬掩膜上的光刻膠，采用等離子體刻蝕方法進行鎢電極的深刻蝕；

e)去除硬掩膜，得到鎢微細電極。

4.如權利要求3所述的具有高表面質量的微模具的復合加工方法，其特征在于，步驟a)所述硬掩膜的材料為Al、AlN、Cr、Ni、Cu、Ti中的一種。

5.如權利要求1所述的具有高表面質量的微模具的復合加工方法，其特征在于，步驟2)在進行微細電火花加工之后，利用研磨的方式提高微細電火花加工區域的表面質量。

6.如權利要求1所述的具有高表面質量的微模具的復合加工方法，其特征在于，所述微模具的材料為金屬或合金材料，包括模具鋼或硬質合金。

7.根據權利要求1～6中任一項所述具有高表面質量的微模具的復合加工方法制備的微模具。