[發(fā)明專利]粉體熔敷噴嘴在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510522690.1 | 申請日: | 2015-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN105506614A | 公開(公告)日: | 2016-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 巖谷信吾;佐藤彰生;石川善統(tǒng) | 申請(專利權(quán))人: | 豐田自動車株式會社 |
| 主分類號: | C23C24/10 | 分類號: | C23C24/10 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;舒艷君 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 粉體熔敷 噴嘴 | ||
1.一種粉體熔敷噴嘴,
所述粉體熔敷噴嘴具備:內(nèi)側(cè)噴嘴部件,所述內(nèi)側(cè)噴嘴部件具有用 于供激光通過的激光通路;以及外側(cè)噴嘴部件,所述外側(cè)噴嘴部件外嵌 于所述內(nèi)側(cè)噴嘴部件,在所述內(nèi)側(cè)噴嘴部件與所述外側(cè)噴嘴部件之間形 成有供粉體通過的排出通路以及排出通過所述排出通路后的粉體的排 出口,
其中,
所述排出通路的通路寬度隨著趨向所述排出口而變寬。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粉體熔敷噴嘴,其中,
構(gòu)成所述排出通路的所述內(nèi)側(cè)噴嘴部件的外周面與所述外側(cè)噴嘴 部件的內(nèi)周面呈隨著趨向所述排出口而縮徑的圓錐臺狀,所述內(nèi)側(cè)噴嘴 部件的外周面相對于中心軸線的傾斜角比所述外側(cè)噴嘴部件的內(nèi)周面 相對于中心軸線的傾斜角大,由此使得所述排出通路的通路寬度隨著趨 向所述排出口而變寬。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C24-00 自無機(jī)粉末起始的鍍覆
C23C24-02 .僅使用壓力的
C23C24-08 .加熱法或加壓加熱法的
C23C24-10 ..覆層中臨時形成液相的
C23C24-04 ..顆粒的沖擊或動力沉積
C23C24-06 ..粉末狀覆層材料的壓制,例如軋制





