[發明專利]一種風送噴霧機在審
| 申請號: | 201510507112.0 | 申請日: | 2015-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN105214866A | 公開(公告)日: | 2016-01-06 |
| 發明(設計)人: | 劉昊源 | 申請(專利權)人: | 劉昊源 |
| 主分類號: | B05B7/02 | 分類號: | B05B7/02;B05B7/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310006 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 噴霧機 | ||
技術領域
本發明涉及除塵裝置,尤其是大范圍開放區域噴霧除塵機械.
背景技術
適用于工廠或礦場等其它用途的普通風送式噴霧機,通過風筒噴射霧化的水,使得霧滴與空氣中的粉塵結合來降塵。比傳統的自來水噴灑效率更高,也節約了更多的水資源。在使用時噴嘴噴出的水霧形成一堵霧墻來達到阻擋粉塵擴散和粘附粉塵降落地面來達到除塵和抑塵效果。然而風送式噴霧機在使用時有幾個普遍的問題:
1.普通的風送式噴霧機只能通過調節風筒角度來改變噴射地點,所以形成的霧墻有大范圍死角,其水霧也無法覆蓋近處的空間。
2.有效霧滴的覆蓋范圍有限。水霧在噴射過程中部分會相互碰撞,并結合,形成大霧滴。這種大霧滴由于質量大,隨風輸送的距離近,所以下沉的速度快。看起來水霧在不遠處也有覆蓋,但在不遠處這種大霧滴的直徑遠遠大于10μm,由于一般有害粉塵的直徑小于10μm,它們互相碰撞粘附的概率很低,其除塵效果極差,霧墻的阻擋粉塵擴散效果也低,所以,大霧滴是非有效霧滴。而小于10μm的有效霧滴則易被風送到更遠處。
中國專利號CN104785047A橫向移動式除塵霧化設備,公開了一種底座上滑動安裝的滑塊及滑塊橫向移動控制裝置的霧化噴射裝置,減少了死角。其不足之處是安裝困難,成本高,并且仍未解決水霧無法覆蓋近處的空間的問題。
中國專利號CN201520160472的噴霧除塵機風筒裝置,通過增加風筒架和轉動裝配在風筒架上的轉動軸,使風筒做高頻上下運動,解決了現有技術中風筒有效覆蓋范圍有限的問題,其不足之處是各部件必須保證高強度使風筒做長時間高頻運動。技術難度高,而且也不經濟。除此之外,在風筒上下運動中會產生霧墻空隙。
實用中有用兩臺以上不同射程的風送式噴霧機組合,來達到全范圍的有效霧滴的覆蓋。
發明內容
本發明所要解決的問題是,克服現有技術的不足,提供一種噴霧除塵器,使有效霧滴的覆蓋范圍變大,而且無死角,即,在近處也能做到有效小霧滴覆蓋,使得霧墻延伸范圍廣,阻隔粉塵更有效率。改進的成本低,從而提升產品質量。
為解決上述問題,本發明的基本構思是:根據伯努利定理進風口比出風口大時,風速變快,反之變小。假如把風機風筒分割成兩部分,可以上風筒流速快,噴的遠。下風筒流速慢,噴的近。將上下結合,水霧的有效覆蓋范圍就大大增加,還可以通過調節分流導板的角度來調整該覆蓋范圍的大小。
本發明的技術方案是,一種風送式噴霧機,包括鼓風葉,風筒,噴霧嘴,其特征在于:還設置有分流導板,該分流導板將風筒氣流分割,使風筒形成不同的流道。分流導板可以是可活動可調的,也可以是固定的,也可拆卸以替換不同尺寸。分流導板與氣流方向呈一定的迎風角度α,使得風筒的各流道進出風口尺寸大小改變,不同流道具有不同的風速,高風速的可將水霧送得更遠,低風速的可將水霧送得更近,從而形成全范圍的有效霧滴的覆蓋。
風筒中分流導板可以是一塊也可以是多塊。也就是風筒可以有多個流道。
本發明的有益效果:一臺風送式噴霧機,不需該機的風筒做高頻上下運動,便可達到不僅遠處有,而且近處也有大量的有效消除有害粉塵的小霧滴,大幅度增加了風送式噴霧機的除塵效率,且不留死角;本發明只需在原有的普通風送式噴霧機的結構中增加關鍵部件,安裝方便,制造簡單,其便捷性與成本與普通的風送式噴霧機無異。
附圖說明
下面結合附圖和實施方式對本發明作進一步說明。
圖1為現有技術噴霧除塵有效霧滴分布圖
圖2為本發明噴霧除塵有效霧滴分布圖。
圖3為本發明的結構剖面示意圖。
具體實施方式
圖1為現有技術噴霧除塵有效霧滴分布圖。為一股霧流射出。
圖2為本發明噴霧除塵有效霧滴分布圖。上下兩股霧流,上面的是高速下面的是低速,交界處是混流勻速帶,形成了全范圍的有效霧滴的覆蓋。
圖3為本發明的結構剖面。在這里設置一片分流導板1,將導流板連接在活軸2上,調節其迎風角度α來達到所需的霧滴覆蓋范圍,之后將分流導板1固定。扇葉4吹出的風流被分流導板1分流至上通道5和下通道6,上通道5的風速高于比下通道6的風速,因此從噴嘴3噴出的水霧的上半部分被從上通道5的高速風送得更遠,而下半部分則被下通道6的低速風吹在更近的位置,從而實現了由近至遠的大范圍有效霧滴的覆蓋。
本發明并不僅僅局限于上述的實施方式。與本發明屬同一基本構思的其它形式,也屬于本發明的保護范圍。
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