[發(fā)明專利]一種釹鐵硼氫破碎工藝氫氣收集系統(tǒng)及應(yīng)用方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510475556.0
• 申請日: 2015-08-06
• 公開（公告）號: CN105108158A
• 公開（公告）日: 2015-12-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王永東;李緒亮;陳靜武;黃秀蓮;衣曉飛;熊永飛
• 申請（專利權(quán)）人: 安徽大地熊新材料股份有限公司
• 主分類號: B22F9/04
• 分類號: B22F9/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種釹鐵硼氫破碎工藝氫氣收集系統(tǒng)，包括氫破罐（10），所述氫破罐（10）上設(shè)置有氣體輸入管道和氣體輸出管道，其特征在于，所述氣體輸入管道包括輸氫管道（20），所述氣體輸出管道上依次設(shè)置有第一閥門（30）、氫氣收集裝置（40）、第二閥門（31）、真空泵（70），所述氫氣收集裝置（40）內(nèi)設(shè)置有蓄氫合金粉末。

2.如權(quán)利要求1所述的一種釹鐵硼氫破碎工藝氫氣收集系統(tǒng)，其特征在于，所述蓄氫合金為LaNi₅合金、ZrV₂合金、ZrMn₂合金、ZrCr₂合金、TiFe合金、Mg合金和Mg₂Ni合金中的一種或多種。

3.如權(quán)利要求1所述的一種釹鐵硼氫破碎工藝氫氣收集系統(tǒng)，其特征在于，所述氫氣收集裝置（40）外部設(shè)置有溫度控制裝置（50）。

4.如權(quán)利要求3所述的一種釹鐵硼氫破碎工藝氫氣收集系統(tǒng)，其特征在于，所述氫氣收集裝置（40）與氫破罐（10）之間還設(shè)置有氫氣釋放回路，所述氫氣釋放回路上依次設(shè)置有第三閥門（32）、增壓裝置（71）、壓力罐（60）、第四閥門（33）。

5.如權(quán)利要求1-4中任一項所述的一種釹鐵硼氫破碎工藝氫氣收集系統(tǒng)，其特征在于，所述氫破罐（10）與第一閥門（30）之間設(shè)置有冷卻裝置（80）。

6.如權(quán)利要求5所述的一種釹鐵硼氫破碎工藝氫氣收集系統(tǒng)，其特征在于，所述氣體輸入管道還包括輸?shù)艿溃?1）和輸氬管道（22）。

7.一種權(quán)利要求1-6中任一項所述的釹鐵硼氫破碎工藝氫氣收集系統(tǒng)的應(yīng)用方法，所述釹鐵硼氫破碎工藝包括吸氫、破碎、脫氫、冷卻，其特征在于，該應(yīng)用方法在吸氫步驟中，通過真空泵（70）將系統(tǒng)抽至小于1.0Pa，關(guān)閉第一閥門（30）、第二閥門（31）、第三閥門（32）、第四閥門（33），然后通過輸氫管道（20）向氫破罐（10）內(nèi)輸入氫氣，直至氫破罐（10）壓力達到0.09MPa～0.10MPa；在脫氫步驟中，打開第一閥門（30）和第二閥門（31），開啟冷卻裝置（80），開啟溫度控制裝置（50）對氫氣收集裝置（40）進行降溫，通過真空泵（70）將氫破罐（10）內(nèi)壓力抽至0.01MPa以下，關(guān)閉第二閥門（31）。

8.如權(quán)利要求7所述的一種應(yīng)用方法，其特征在于，在破碎步驟中，當(dāng)氫破罐（10）內(nèi)氫氣壓力在30min內(nèi)降低超過0.02MPa時，通過輸氫管道（20）向氫破罐（10）內(nèi)補充氫氣。

9.如權(quán)利要求7所述的一種應(yīng)用方法，其特征在于，在破碎步驟中，當(dāng)氫破罐（10）內(nèi)氫氣壓力在30min內(nèi)降低超過0.02MPa時，此時第一閥門（30）、第二閥門（31）、第四閥門（33）處于關(guān)閉狀態(tài)，開啟溫度控制裝置（50）對氫氣收集裝置（40）進行加熱釋放氫氣，打開第三閥門（32），通過增壓裝置（71）對氫氣增壓并儲存至壓力罐（60）中，再打開第四閥門（33）通過壓力罐（60）向氫破罐（10）內(nèi)補充氫氣。

10.如權(quán)利要求9所述的一種應(yīng)用方法，其特征在于，所述增壓裝置（71）對氫氣增壓至0.4MPa～0.6MPa后儲存至壓力罐（60）中。