[發(fā)明專利]玻璃生產系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510468109.2
• 申請日: 2015-07-31
• 公開（公告）號: CN105084775A
• 公開（公告）日: 2015-11-25
• 發(fā)明（設計）人: 薛輝;昌江;任俊春;金海濤
• 申請（專利權）人: 蕪湖真空科技有限公司
• 主分類號: C03C17/245
• 分類號: C03C17/245;C03B18/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發(fā)明涉及玻璃生產領域，具體地，涉及一種玻璃生產系統(tǒng)。

背景技術

在現(xiàn)有的生產領域中，對于玻璃的鍍上的膜層很容易就被氧化，一旦被氧化，玻璃的質量就下降，既不美觀也影響使用，現(xiàn)有的裝置生產出的玻璃鍍膜表面容易氧化的問題一直難以解決，那么設計一種可以防止玻璃氧化的玻璃生產系統(tǒng)成為一種亟需解決的問題。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的是提供一種玻璃生產系統(tǒng)，該玻璃生產系統(tǒng)克服了現(xiàn)有技術生產出的玻璃容易被氧化，質量會下降的問題，實現(xiàn)了更好地鍍膜。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種玻璃生產系統(tǒng)，該玻璃生產系統(tǒng)包括沿所述玻璃的運輸方向上依次連通且密封的以下設備：

原料爐，所述原料爐用于裝載原始材料；

熔窯，所述熔窯用于對原始材料進行加熱；

錫槽，所述錫槽對加熱之后的原始材料進行在線鍍膜；

退窯，所述退窯對鍍完膜的原始材料降溫。

優(yōu)選地，該玻璃生產系統(tǒng)還包括：

玻璃切割機，所述玻璃切割機設置于所述退窯的出口處，對玻璃進行切割。

優(yōu)選地，所述熔窯和所述錫槽為真空。

優(yōu)選地，所述退窯包括沿鍍完膜的原始材料的傳輸方向上依次設置的：第一退火窯、第二退火窯和第三退火窯，所述第一退火窯的溫度為200-400℃；所述第二退火窯的溫度為100-200℃；所述第三退火窯的溫度為50-100℃。

通過上述的實施方式，本發(fā)明的玻璃生產系統(tǒng)通過對加熱過程中的原始材料直接進行鍍膜，即錫槽中的化學品直接噴射到熱玻璃表面上，隨著玻璃的冷卻，膜層成為了玻璃的一部分，因此，膜層堅硬牢固，在空氣中不氧化。其中，化學品蒸汽與玻璃表面反應形成金屬氧化物膜，鍍膜是在玻璃生產的同時進行的。

本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。

附圖說明

附圖是用來提供對本發(fā)明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本發(fā)明，但并不構成對本發(fā)明的限制。在附圖中：

圖1是說明本發(fā)明的一種玻璃生產系統(tǒng)的結構示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖對本發(fā)明的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。

本發(fā)明提供一種玻璃生產系統(tǒng)，該玻璃生產系統(tǒng)包括沿所述玻璃的運輸方向上依次連通且密封的以下設備：

原料爐，所述原料爐用于裝載原始材料；

熔窯，所述熔窯用于對原始材料進行加熱；

錫槽，所述錫槽對加熱之后的原始材料進行在線鍍膜；

退窯，所述退窯對鍍完膜的原始材料降溫。

通過上述的實施方式，本發(fā)明的玻璃生產系統(tǒng)通過對加熱過程中的原始材料直接進行鍍膜，即錫槽中的化學品直接噴射到熱玻璃表面上，隨著玻璃的冷卻，膜層成為了玻璃的一部分，因此，膜層堅硬牢固，在空氣中不氧化。其中，化學品蒸汽與玻璃表面反應形成金屬氧化物膜，鍍膜是在玻璃生產的同時進行的。

以下結合附圖1對本發(fā)明進行進一步的說明，在本發(fā)明中為了實現(xiàn)更好地效果，特別使用下述的具體實施方式。

在本發(fā)明的一種具體實施方式，該玻璃生產系統(tǒng)還可以包括：

玻璃切割機，所述玻璃切割機設置于所述退窯的出口處，對玻璃進行切割。

玻璃切割機的作用在于切割玻璃的大小，將玻璃切割成符合使用的大小。

在該種實施方式中，所述熔窯和所述錫槽為真空。熔窯和錫槽為真空，將更加方便鍍膜，防止有空氣進入。

在該種實施方式中，所述退窯包括沿鍍完膜的原始材料的傳輸方向上依次設置的：第一退火窯、第二退火窯和第三退火窯，所述第一退火窯的溫度為200-400℃；所述第二退火窯的溫度為100-200℃；所述第三退火窯的溫度為50-100℃。通過該種實施方式，可以讓本發(fā)明的玻璃退火效果更好，避免由于溫差太大導致的玻璃開裂。

以上結合附圖詳細描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，但是，本發(fā)明并不限于上述實施方式中的具體細節(jié)，在本發(fā)明的技術構思范圍內，可以對本發(fā)明的技術方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本發(fā)明的保護范圍。

另外需要說明的是，在上述具體實施方式中所描述的各個具體技術特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重復，本發(fā)明對各種可能的組合方式不再另行說明。

此外，本發(fā)明的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違背本發(fā)明的思想，其同樣應當視為本發(fā)明所公開的內容。