[發(fā)明專利]基于CCD的激光熔覆方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201510454893.1
• 申請日: 2015-07-29
• 公開（公告）號: CN104962908A
• 公開（公告）日: 2015-10-07
• 發(fā)明（設計）人: 石世宏;陸斌;傅戈雁;方琴琴
• 申請（專利權）人: 蘇州大學
• 主分類號: C23C24/10
• 分類號: C23C24/10
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227
• 代理人: 唐靈;常亮

1.一種基于CCD的激光熔覆方法，其特征在于，所述基于CCD的激光熔覆方法包括如下步驟：

S1.建立零件的三維模型，并對建立的三維模型進行分層處理，獲取零件的輪廓層面信息；

S2.設定激光熔覆的參數(shù)下，逐層熔覆堆積零件；

S3.通過CCD監(jiān)控零件堆積過程中，每層的提升量的數(shù)值，選取穩(wěn)定性好的提升量數(shù)值，作為基準提升量，記為h1；

S4.根據(jù)獲取的零件的輪廓層面信息，逐層熔覆堆積零件，同時，CCD計算每層的提升量，記為h2；

S5.每層熔覆過程中，對比h1和相應h2之間的大小關系，根據(jù)對比結(jié)果，調(diào)節(jié)激光熔覆的功率，并進行下一層的熔覆；

S6.當零件的總高度大于等于設計高度時，熔覆結(jié)束。

2.根據(jù)權利要求1所述的基于CCD的激光熔覆方法，其特征在于，所述步驟S2中，所述激光熔覆的參數(shù)為：激光功率800w，掃描速度7mm/s，激光離焦量-3.5mm，送粉量8g/min。

3.根據(jù)權利要求1所述的基于CCD的激光熔覆方法，其特征在于，所述步驟S2中，逐層堆積的層數(shù)為20層。

4.根據(jù)權利要求1所述的基于CCD的激光熔覆方法，其特征在于，所述步驟S5具體包括：

S51.當h1大于h2時，降低所述激光熔覆的功率，并進行下一層的熔覆；

S52.當h1等于h2時，保持所述激光熔覆的功率恒定，并進行下一層的熔覆；

S53.當h1小于h2時，提升所述激光熔覆的功率，并進行下一層的熔覆。