[發明專利]電子設備及投影處理方法在審
| 申請號: | 201510445442.1 | 申請日: | 2015-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN105094330A | 公開(公告)日: | 2015-11-25 |
| 發明(設計)人: | 丁雪冬 | 申請(專利權)人: | 聯想(北京)有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/01 | 分類號: | G06F3/01;G06F3/042;H04N5/74;H04N9/31 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 | 代理人: | 李梅香;張穎玲 |
| 地址: | 100085*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子設備 投影 處理 方法 | ||
1.一種電子設備,其特征在于,所述電子設備包括:
光源單元,用于形成投影光束;
傳導單元,用于調整所述投影光束的投射方向,使所述投影光束的投射方向與所述電子設備所在平面之間的夾角為第一夾角;所述第一夾角為銳角或鈍角;
投射窗,用于供所述投影光束從所述電子設備射出。
2.根據權利要求1所述的電子設備,其特征在于,
所述電子設備位于第一平面內;
所述投影光束能夠用于投射到第二平面內形成投影畫面;
其中,所述第一平面垂直于所述第二平面。
3.根據權利要求1或2所述的電子設備,其特征在于,
所述傳導單元位于所述光源單元的外側,包括至少一個反光鏡;
所述反光鏡,用于利用光線反射改變所述投影光束的投射方向。
4.根據權利要求1所述的電子設備,其特征在于,
所述電子設備還包括:
驅動單元,用于調整所述傳導單元的擺放位置,以改變所述光源單元的投射到所述傳導單元上的入射角度,調整所述投影光束的投射方向。
5.根據權利要求1所述的電子設備,其特征在于,
所述電子設備包括N個所述投射窗;所述N為不小于2的整數;
所述投射窗離散分布在所述電子設備外表面;
第n個所述投射窗用供第n個投射方向的所述投影光束射出;
其中,第n個投射方向不同于第n+1個投射方向;
所述n為不小于1且小于所述N的整數。
6.根據權利要求1所述的電子設備,其特征在于,
所述投射窗的面積為第一面積;
所述投影光束投射到所述投射窗上的面積為第二面積;
所述第一面積大于所述第二面積。
7.根據權利要求1或2所述的電子設備,其特征在于,
所述投影光束用于在投影區域形成投影畫面;
所述電子設備還包括:
檢測單元,用于檢測基于所述投影畫面的操作手勢;
響應單元,響應所述操作手勢執行與所述操作手勢對應的預定操作。
8.一種投影處理方法,所述方法包括:
形成投影光束;
調整所述投影光束的投射方向,使所述投影光束的投射方向與所述電子設備所在平面之間的夾角為第一夾角;所述第一夾角為銳角或鈍角;
將所述投影光束從所述電子設備射出。
9.根據權利要求8所述的所述方法,其特征在于,
所述電子設備位于第一平面內;
所述將所述投影光束從所述電子設備射出,包括:
將所述投影光束投射到第二平面內,形成投影畫面;
其中,所述第一平面垂直于所述第二平面。
10.根據權利要求8或9所述的方法,其特征在于,
所述調整所述投影光束的投射方向,使所述投影光束的投射方向與所述電子設備所在平面之間的夾角為第一夾角,包括:
利用反光鏡的光線反射改變所述投影光束的投射方向。
11.根據權利要求8或9所述的方法,其特征在于,
所述投影光束用于在投影區域形成投影畫面;
所述方法還包括:
檢測基于所述投影畫面的操作手勢;
響應所述操作手勢執行與所述操作手勢對應的預定操作。
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