[發明專利]等離子體刻蝕設備

有效

• 申請號: 201510445160.1
• 申請日: 2015-07-27
• 公開（公告）號: CN105118767B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 鄭錦華;王俊杰;廖曉燕;吳雙;魏新煦
• 申請（專利權）人: 鄭州大學
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 鄭州德勤知識產權代理有限公司41128
• 代理人: 黃軍委

1.一種等離子體刻蝕設備，包括有設置有氣體原料進氣口的等離子體發生室、與所述等離子體發生室連通的抽真空裝置、設置在所述等離子體發生室內部的陽極結構和與所述陽極結構間隔設置的陰極結構，所述陽極結構和所述陰極結構分別設置所述等離子體發生室內部相對設置的兩端，所述陽極結構與所述等離子體發生室電連接，所述陰極結構與所述等離子體發生室電絕緣，其特征在于：所述陰極結構包括陰極板、用于罩所述陰極板的陽極罩筒和絕緣板，所述陽極罩筒的一端用于設置玻璃工件，使所述玻璃工件與所述陽極罩筒和所述絕緣板配合形成電氣絕緣腔，以使所述陰極板與所述陽極罩筒電絕緣。

2.根據權利要求1所述的等離子體刻蝕設備，其特征在于：所述陰極板上連接有陰極導入線，所述陰極導入線通過絕緣套與所述等離子體電離室電絕緣。

3.根據權利要求1或2所述的等離子體刻蝕設備，其特征在于：所述陰極結構設置于所述等離子體發生室的底端，所述絕緣板位于所述等離子體發生室內部底端，所述陰極板位于所述絕緣板的上方，所述陽極罩筒用于罩所述陰極板和所述絕緣板。

4.根據權利要求3所述的等離子體刻蝕設備，其特征在于：所述抽真空裝置使得所述等離子體發生室中的真空度不低于5×10^-3Pa。

5.根據權利要求3所述的等離子體刻蝕設備，其特征在于：所述陰極板與所述陽極罩筒的內側壁的間隙為1～2mm。

6.根據權利要求1或2所述的等離子體刻蝕設備，其特征在于：所述陽極結構包括與所述等離子體反應室電連接的陽極板和調節所述陽極板與所述陽極罩筒之間間距的距離調節器。