[發(fā)明專利]一種基于SIW加載H型縫隙結(jié)構(gòu)的雙通帶濾波器

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510438047.0
• 申請(qǐng)日: 2015-07-23
• 公開（公告）號(hào): CN105098301A
• 公開（公告）日: 2015-11-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王洪李;趙永久
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京航空航天大學(xué)
• 主分類號(hào): H01P1/203
• 分類號(hào): H01P1/203
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32249
• 代理人: 朱亮淞

1.一種基于SIW加載H型縫隙結(jié)構(gòu)的雙通帶濾波器，包括兩個(gè)SIW腔諧振器和共面波導(dǎo)，所述兩個(gè)SIW腔諧振器的兩端通過共面波導(dǎo)分別與輸入輸出端連接，其特征在于：在兩個(gè)SIW腔諧振器的耦合窗口正上方加載H型縫隙結(jié)構(gòu)；所述兩個(gè)SIW腔諧振器為在介質(zhì)基板上左右分別設(shè)置若干金屬化通孔圍合形成，位于左側(cè)的為第一SIW腔諧振器，位于右側(cè)的為第二SIW腔諧振器；所述金屬化通孔的直徑均一致，且相鄰金屬化通孔之間的間距相同；所述介質(zhì)基板包括介質(zhì)基片(11)、上層金屬層(12)和下層金屬層(13)，設(shè)定介質(zhì)基板上橫向中線為y軸，縱向中線為x軸，所述介質(zhì)基片(11)設(shè)置在上層金屬層(12)和下層金屬層(13)之間；所述H型縫隙結(jié)構(gòu)包括第五槽線(25)、第六槽線(26)和第七槽線(27)，所述第五槽線(25)和第七槽線(27)平行設(shè)置在耦合窗口正上方，所述第五槽線(25)和第七槽線(27)關(guān)于y軸對(duì)稱，所述第六槽線(26)垂直設(shè)置在第五槽線(25)與第七槽線(27)之間的中線上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種基于SIW加載H型縫隙結(jié)構(gòu)的雙通帶濾波器，其特征在于：所述共面波導(dǎo)通過在上層金屬層(12)開設(shè)第一槽線(21)、第二槽線(22)，以及在上層金屬層(12)開設(shè)第三槽線(23)、第四槽線(24)形成，第一饋線(31)和第二饋線(32)分別為在介質(zhì)基片(11)上設(shè)置的條狀金屬層，所述第一饋線(31)通過第一槽線(21)和第二槽線(22)與第一SIW腔諧振器左側(cè)中部連接，所述第二饋線(32)通過第三槽線(23)和第四槽線(24)與第二SIW腔諧振器右側(cè)中部連接，所述第一槽線(21)、第二槽線(22)、第三槽線(23)和第四槽線(24)分別為在介質(zhì)基板的上層金屬層(12)上開設(shè)的L形凹槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種基于SIW加載H型縫隙結(jié)構(gòu)的雙通帶濾波器，其特征在于：設(shè)定介質(zhì)基板上橫向中線為y軸，縱向中線為x軸，所述第一饋線(31)和第二饋線(32)關(guān)于x軸對(duì)稱，第一槽線(21)和第二槽線(22)關(guān)于y軸對(duì)稱，第三槽線(23)和第四槽線(24)關(guān)于y軸對(duì)稱，第一槽線(21)和第三槽線(23)關(guān)于x軸對(duì)稱，第二槽線(22)和第四槽線(24)關(guān)于x軸對(duì)稱。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種基于SIW加載H型縫隙結(jié)構(gòu)的雙通帶濾波器，其特征在于：所述第一饋線(31)與第二饋線(32)的特性阻抗為50歐姆。