[發明專利]坩堝裝置和蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201510437009.3
• 申請日: 2015-07-23
• 公開（公告）號: CN104962864B
• 公開（公告）日: 2017-11-10
• 發明（設計）人: 何瑞亭
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司11243
• 代理人: 許靜,黃燦

技術領域

本發明涉及通信領域，尤其是涉及一種坩堝裝置和蒸鍍設備。

背景技術

目前，市場廣泛使用的屏幕是LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)和OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機發光二極管)，而OLED主要應用于小尺寸面板。與LCD相比，OLED具有輕薄，低功耗，高對比度，高色域，及可以實現柔性顯示等優點，是下一代顯示器的發展趨勢。OLED顯示包括PMOLED(Passive Matrix OLED，無源矩陣有機發光二極體)顯示和AMOLED(Active Matrix OLED，有源矩陣有機發光二極體)顯示，其中AMOLED顯示的實現方式有兩種：(1)LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低溫多晶硅技術)背板+精細金屬掩膜(FMM Mask)方式、(2)Oxide(氧化物)背板+WOLED+彩膜的方式，前者主要應用于小尺寸面板，例如手機和其它移動終端，后者主要應用于大尺寸面板，例如Monitor(顯示器)和電視等。現在，LTPS背板+FMM Mask這一實現方式已經初步成熟，并實現了量產。

精細金屬掩膜(FMM Mask)模式，是指通過蒸鍍方式將OLED材料按照預定程序蒸鍍到LTPS背板上，利用FMM上的圖形，形成紅綠藍器件。蒸鍍是在真空腔體中進行的，量產過程中，蒸發源通常使用線性蒸發源，坩堝通常使用線性坩堝。請參考圖1，圖1是根據現有技術的坩堝裝置的側面示意圖，如圖1所示，坩堝為中空結構，使用外部加熱絲對其進行加熱，由于加熱絲容易變形，導致坩堝的溫度均勻性差，整體溫度均勻性有10％～20％，蒸鍍出來的膜層厚度不均，并且容易引起坩堝內材料變性等問題。

然而，針對上述技術缺陷，現有技術并沒有提供一種有效的解決方案。

發明內容

本發明的主要目的在于提供一種溫度均勻性好、能夠使蒸鍍出來的薄膜厚度均勻、且不會造成坩堝內材料變性用于蒸鍍的坩堝裝置和蒸鍍設備。

為了達到上述目的，本發明提供了一種坩堝裝置和蒸鍍設備。

根據本發明的一個方面，提供了一種坩堝裝置，包括：外壁、內壁及加熱部件，所述加熱部件設置于所述外壁的外部；所述外壁和所述內壁形成一用于容納導熱液體的腔體。

優選地，所述外壁和所述內壁的材料均為鈦。

優選地，所述外壁的側壁上設置有一用于向所述腔體中注入所述導熱液體的液體注入管。

優選地，所述液體注入管的頂部開口位置高于所述側壁的最高位置。

優選地，所述液體注入管上設置有冷卻部件，用于對所述液體注入管進行冷卻，使得蒸發到所述液體注入管處的氣態導熱液體冷卻為液態導熱液體并回流到所述腔體中。

優選地，所述液體注入管上設置有一溫度控制器，用于對所述液體注入管的溫度進行實時監控，并將得到的實時溫度反饋到所述冷卻部件，使得所述冷卻部件根據所述實時溫度與溫度閾值的差值調整對所述液體注入管的冷卻操作。

優選地，所述液體注入管的頂部開口處設置有一密封蓋，用于形成對所述液體注入管的密封，當所述導熱液體通過所述液體注入管注入所述腔體后，通過所述液體注入管向所述腔體中除注入的導熱液體之外的剩余空間充入惰性氣體，或將所述剩余空間抽成真空后，使用所述密封蓋對所述液體注入管進行密封。

優選地，所述液體注入管的材料為鈦。

優選地，所述導熱液體包括：導熱油。

優選地，所述坩堝裝置的形狀為長方體。

根據本發明的另一個方面，提供了一種蒸鍍設備，該蒸鍍設備包括上述坩堝裝置。

與現有技術相比，本發明所述的坩堝裝置和蒸鍍設備，在坩堝內外壁間填充導熱油，導熱油在加熱絲加熱過程中能夠快速將熱量進行均勻地傳導給坩堝內壁，使坩堝內壁均勻受熱，蒸鍍材料添加于坩堝內后得到均勻受熱后進行蒸發，導熱油加熱均勻能夠維持材料溫度均勻，這樣就保證了整體的溫度均勻性，大大提高了坩堝加熱時的溫度均勻性，從而能夠保證蒸鍍出來的薄膜厚度均勻性高的效果，而且可以避免蒸鍍材料變性情況的發生。

附圖說明

圖1是根據現有技術的坩堝裝置的側面示意圖；

圖2是根據本發明實施例的坩堝裝置的側面示意圖；

圖3是根據本發明實施例的坩堝裝置的俯視示意圖。

具體實施方式