[發(fā)明專利]線偏振平面光波對(duì)襯底上方的拓?fù)浣^緣體微粒的可調(diào)諧捕獲和篩選的方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510432128.X
• 申請(qǐng)日: 2015-07-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105182521A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-12-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曹暾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大連理工大學(xué)
• 主分類號(hào): G02B21/32
• 分類號(hào): G02B21/32;G21K1/00
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種線偏振平面光波對(duì)襯底上方的拓?fù)浣^緣體微粒的可調(diào)諧捕獲和篩選的方法，其特征在于，將拓?fù)浣^緣體微粒置于襯底平板上方，該襯底平板破壞了拓?fù)浣^緣體微粒周圍的玻印亭矢量對(duì)稱分布，使拓?fù)浣^緣體微粒上的總玻印亭矢量不為零，產(chǎn)生非梯度光學(xué)力；通過(guò)改變拓?fù)浣^緣體的量子態(tài)，改變拓?fù)浣^緣體微粒上的總玻印亭矢量分布，進(jìn)而改變總玻印亭矢量作用在拓?fù)浣^緣體微粒上的非梯度光學(xué)力的方向和大小，來(lái)調(diào)控拓?fù)浣^緣體微粒在入射光場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)軌跡，從而對(duì)附著在拓?fù)浣^緣體微粒表面的納米尺寸分子進(jìn)行可調(diào)諧捕獲和篩選，其中，拓?fù)浣^緣體微粒置于襯底平板上方，襯底平板是介質(zhì)板或金屬板，襯底的長(zhǎng)、寬、高在10納米到10米，拓?fù)浣^緣體微粒與襯底平板表面的距離為l，l>0；拓?fù)浣^緣體微粒的外形是曲面幾何體或者多面體，體積在1立方納米至1000立方微米。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，入射光為線偏振平面波；入射光方向平行于襯底平板，頻率范圍為0.3微米～20微米，功率范圍為0.1mW/μm²～10mW/μm²。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，入射光的光源采用波長(zhǎng)可調(diào)諧激光器、半導(dǎo)體連續(xù)、準(zhǔn)連續(xù)激光或者發(fā)光二極管。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，襯底材料是金屬或介質(zhì)，其中，金屬是Al、Ag、Au、Cu、Ni、Pt，介質(zhì)是Si、SiO₂、GaAs、InP、Al₂O₃中的一種或聚合物。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，表面附有納米尺寸分子的拓?fù)浣^緣體微粒，拓?fù)浣^緣體是Bi_xSb_1-x、HgTe、Bi₂Te₃、Bi₂Se₃或Sb₂Te₃。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4或5所述的方法，其特征在于，表面附有納米尺寸分子的拓?fù)浣^緣體微粒，納米尺寸分子具有非手性結(jié)構(gòu)或手性結(jié)構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4或5所述的方法，其特征在于，表面附有納米尺寸分子的拓?fù)浣^緣體微粒，拓?fù)浣^緣體通過(guò)材料生長(zhǎng)工藝實(shí)現(xiàn)，包括磁控濺射、電子束蒸發(fā)、金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉淀、氣相外延生長(zhǎng)、分子束外延。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4或5所述的方法，其特征在于，表面附有納米尺寸分子的拓?fù)浣^緣體微粒通過(guò)光照、通電、加熱、加壓、和外加磁場(chǎng)實(shí)現(xiàn)拓?fù)浣^緣體從拓?fù)浞瞧接沟酵負(fù)淦接沟目赡媪孔酉嘧儭?/p>