[發(fā)明專利]線偏振平面光波對襯底上方的二氧化釩微粒的可調(diào)諧捕獲和篩選的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510432104.4 | 申請日: | 2015-07-21 |
| 公開(公告)號: | CN105182519A | 公開(公告)日: | 2015-12-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹暾 | 申請(專利權(quán))人: | 大連理工大學(xué) |
| 主分類號: | G02B21/32 | 分類號: | G02B21/32;G21K1/00;G02B27/28 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 116024 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 偏振 平面 光波 襯底 上方 氧化 微粒 調(diào)諧 捕獲 篩選 方法 | ||
1.一種線偏振平面光波對襯底上方的二氧化釩微粒的可調(diào)諧捕獲和篩選的方法,其特征在于,將二氧化釩微粒置于襯底平板上方,該襯底平板破壞了二氧化釩微粒周圍的玻印亭矢量對稱分布,使二氧化釩微粒上的總玻印亭矢量不為零,產(chǎn)生非梯度光學(xué)力;通過改變二氧化釩的晶格結(jié)構(gòu),使二氧化釩由單斜結(jié)構(gòu)的絕緣體態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)樗姆浇Y(jié)構(gòu)的金屬態(tài),改變二氧化釩微粒上的總玻印亭矢量分布,進(jìn)而改變總玻印亭矢量作用在二氧化釩微粒上的非梯度光學(xué)力的方向和大小,來調(diào)控二氧化釩微粒在入射光場中的運(yùn)動(dòng)軌跡,從而對附著在二氧化釩微粒表面的納米尺寸分子進(jìn)行可調(diào)諧捕獲和篩選,其中,二氧化釩微粒置于襯底平板上方,襯底平板是介質(zhì)板或金屬板,襯底的長、寬、高在10納米到10米,二氧化釩微粒與襯底平板表面的距離為l,l>0;二氧化釩微粒的外形是曲面幾何體或者多面體,體積在1立方納米至1000立方微米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,入射光為線偏振平面波;入射光方向平行于襯底平板,頻率范圍為0.3微米~20微米,功率范圍為0.1mW/μm2~10mW/μm2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,入射光的光源采用波長可調(diào)諧激光器、半導(dǎo)體連續(xù)、準(zhǔn)連續(xù)激光或者發(fā)光二極管。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,襯底材料是金屬或介質(zhì),其中,金屬是Al、Ag、Au、Cu、Ni、Pt,介質(zhì)是Si、SiO2、GaAs、InP,Al2O3中的一種或聚合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,表面附有納米尺寸分子的二氧化釩微粒,納米尺寸分子具有非手性結(jié)構(gòu)或手性結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4或5所述的方法,其特征在于,表面附有納米尺寸分子的二氧化釩微粒,二氧化釩通過材料生長工藝實(shí)現(xiàn),包括磁控濺射、電子束蒸發(fā)、金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉淀、氣相外延生長、分子束外延、脈沖激光沉積法、So-Gel法。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4或5所述的方法,其特征在于,表面附有納米尺寸分子的二氧化釩微粒通過光照、通電、加熱和加壓改變其中二氧化釩的晶格結(jié)構(gòu),即二氧化釩由單斜結(jié)構(gòu)的絕緣體態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)樗姆浇Y(jié)構(gòu)的金屬態(tài)。
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