[發(fā)明專利]一種正負極片密度及厚度一致性軋制裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510429164.0
• 申請日: 2015-07-21
• 公開（公告）號: CN106711403A
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發(fā)明（設計）人: 毛金驗
• 申請（專利權）人: 東莞力朗電池科技有限公司
• 主分類號: H01M4/139
• 分類號: H01M4/139
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發(fā)明涉及一種電池生產組件，特別涉及一種正負極片密度及厚度一致性軋制裝置，屬于鋰電池生產設備技術領域。

背景技術

圓柱鋰離子電池分為磷酸鐵鋰、鈷酸鋰、錳酸鋰、鈷錳混合、三元材料不同體系，外殼分為鋼殼和聚合物兩種，不同材料體系電池有不同的優(yōu)點；現有技術中主要以鋼殼圓柱磷酸鐵鋰電池為主，鐵鋰電池表現為容量高、輸出電壓高、良好的充放電循環(huán)性能、輸出電壓穩(wěn)定、能大電流放電、電化學穩(wěn)定性能、使用中安全，不會因過充電、過放電及短路等操作不當而引起燃燒或爆炸，工作溫度范圍寬、對環(huán)境友好；廣泛應用于太陽能燈具、草坪燈具、后備能源、電動工具、玩具模型上；對于圓柱型鋰電池，其正負極片質量直接影響電池質量，現有技術中正負極片生產過程為：先通過涂布機進行涂布，接著通過輥壓機進行軋制，輥壓機軋制僅僅是保證其有一個比較好的密度，但其一致性很難得到保證；且其密度只是相對比原來有一個提高，并沒有真正實現高密度要求。

發(fā)明內容

（一）要解決的技術問題

為解決上述問題，本發(fā)明提出了一種正負極片密度及厚度一致性軋制裝置，能夠保證正負極片一致性，且其密度比較高。

（二）技術方案

本發(fā)明的正負極片密度及厚度一致性軋制裝置，包括涂料帶導料裝置，及設置于涂料帶導料裝置輸出端的連續(xù)制片裝置，及設置于輥壓裝置輸出端的料帶緩沖裝置，及設置于料帶緩沖裝置后側的壓料裝置，及設置于壓料裝置輸出端的極片打磨裝置，及設置于極片打磨裝置輸出端的重錘壓料裝置，及設置于重錘壓料裝置輸出端的收料裝置；

所述涂料帶導料裝置包括上導輪座和下導輪座，及設置于上導輪座和下導輪座之間的多個平衡導輪；

所述連續(xù)制片裝置包括加熱箱，及設置于加熱箱內側的制片輥組；

所述料帶緩沖裝置由上腔和下腔組成；

所述壓料裝置包括升降滑座，及設置于升降滑座上的壓頭，及設置于壓頭下方的受力座；

所述極片打磨裝置包括定位架，及設置于定位架前端的打磨頭；

所述重錘壓料裝置包括電錘，及設置于電錘前端的沖擊頭，及設置于沖擊頭下方的支撐座。

進一步地，所述打磨頭為細沙打磨頭。

進一步地，所述下腔內側為錐形空心結構。

有益效果

與現有技術相比，本發(fā)明的正負極片密度及厚度一致性軋制裝置，通過連續(xù)制片裝置進行初步加熱制片，通過重錘壓料裝置進行沖擊性下壓，接著通過極片打磨裝置打磨掉張緊的料帶多余的厚度，接著收料裝置收料，其經過打磨后的料帶至少經過兩次重錘壓料裝置進行沖擊性下壓；其能夠保證極片的一致性，且提高其密度。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的整體結構示意圖。

具體實施方式

如圖1所示的正負極片密度及厚度一致性軋制裝置，包括涂料帶導料裝置1，及設置于涂料帶導料裝置輸出端的連續(xù)制片裝置2，及設置于輥壓裝置輸出端的料帶緩沖裝置3，及設置于料帶緩沖裝置后側的壓料裝置4，及設置于壓料裝置輸出端的極片打磨裝置5，及設置于極片打磨裝置輸出端的重錘壓料裝置6，及設置于重錘壓料裝置輸出端的收料裝置7；

所述涂料帶導料裝置1包括上導輪座8和下導輪座9，及設置于上導輪座和下導輪座之間的多個平衡導輪10；

所述連續(xù)制片裝置2包括加熱箱11，及設置于加熱箱內側的制片輥組12，

所述料帶緩沖裝置3由上腔13和下腔14組成；

所述壓料裝置4包括升降滑座15，及設置于升降滑座上的壓頭16，及設置于壓頭下方的受力座17；

所述極片打磨裝置5包括定位架18，及設置于定位架前端的打磨頭19；

所述重錘壓料裝置6包括電錘20，及設置于電錘前端的沖擊頭21，及設置于沖擊頭下方的支撐座22。

所述打磨頭19為細沙打磨頭。

所述下腔14內側為錐形空心結構。

工作時，通過涂布機進行涂料，其每一處的涂料厚度都不略大于極片要求的厚度，通過連續(xù)制片裝置進行初步加熱制片，接著將完成初步制片的料帶送至料帶緩沖裝置進行冷卻和初步定型，接著通過壓料裝置和收料裝置配合將料帶張緊，此時重錘壓料裝置進行沖擊性下壓，接著通過極片打磨裝置打磨掉張緊的料帶多余的厚度，接著收料裝置收料，其經過打磨后的料帶至少經過兩次重錘壓料裝置進行沖擊性下壓。

上面所述的實施例僅僅是對本發(fā)明的優(yōu)選實施方式進行描述，并非對本發(fā)明的構思和范圍進行限定。在不脫離本發(fā)明設計構思的前提下，本領域普通人員對本發(fā)明的技術方案做出的各種變型和改進，均應落入到本發(fā)明的保護范圍，本發(fā)明請求保護的技術內容，已經全部記載在權利要求書中。