[發明專利]疊置裝置和疊層體的制作方法

有效

• 申請號: 201510420132.4
• 申請日: 2015-07-16
• 公開（公告）號: CN105375053B
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 山口祐介;大山剛;坂井田憲彥
• 申請（專利權）人: CKD株式會社
• 主分類號: H01M10/04
• 分類號: H01M10/04
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所(普通合伙)11216
• 代理人: 劉淼

技術領域

本發明涉及疊置裝置和疊層體的制造方法，該疊置裝置用于將電極箔和分隔件疊置于旋轉運送的工件上，從而制造疊層體。

背景技術

構成疊層電池等的疊層體按照下述方式形成，該方式為：涂敷有正極活性物質的正極箔與涂敷有負極活性物質的負極箔隔著由絕緣性原材料形成的分隔件而相互交替疊置。

在制造這樣的疊層體時，采用下述方法等，在該方法中，通過運送裝置間歇地運送規定的工件(盤、裝載臺)，通過沿上述工件的運送通路而設置的多個作業裝置，將正極箔、負極箔或分隔件依次疊置于上述工件上。

另外，運送裝置采用可以等時間隔而間歇地旋轉的轉臺。在轉臺上，沿其旋轉方向，設置多個可配置上述工件的工件配置部。

在過去，人們提出有如下技術：根據設置于上述轉臺的后續工序上的裝置的作業能力，控制上述工件相對上述工件配置部的配置間隔(比如，專利文獻1等)。在該技術中，在比如，后續工序的裝置的一個疊層體的作業時間(后續工序作業時間)為10秒，從上述工件停止到下次停止所需要的時間(更具體地說，通過上述作業裝置而將正極箔等疊置所需要的時間，與轉臺的一次的間歇旋轉所需要的時間的合計)為2秒的場合，在從之前設置了工件的工件配置部開始空出四個工件配置部的那個工件配置部(即五個相鄰的工件配置部)上，設置下一工件。由此，按照上述技術，可在與后續工序作業時間吻合的合適的時刻獲得疊層體，也不必設置用于獲取后續工序的時刻的緩存線(存留疊層體的機構)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：JP特開2010-201593號公報

發明內容

發明要解決的課題

但是，在上述技術中，在比如所疊置的正極箔等較多的場合等，為了獲得疊層體而需要的時間長于為了將工件設置于全部的上述工件配置部上而需要的時間的場合，會產生無法在較長的期間，相對上述工件配置部而設置工件的情況。比如，在工件配置部的數量為12時，在上述例子中，相對全部的工件配置部，以110秒[10秒×(12－1)]來設置工件。接著，在比如為了獲得疊層體需要的時間為240秒的場合，在從將工件設置于全部的上述工件配置部上到獲得疊層體的130秒的期間，無法將工件設置于工件配置部上。于是，在某時，以與后續工序作業相同的間隔(在上述例子中為10秒的間隔)而獲得疊層體，持續地將疊層體送給后續工序的裝置，另一方面，在其以外的時間，會產生完全無法獲得疊層體，完全無法將疊層體送給后續工序的裝置(在上述例子中，無法在130秒的期間將疊層體送給后工序的裝置)的情況。另外，在運送疊層體時，后續工序的裝置連續地進行作業，另一方面，在未運送疊層體時，后續工序的裝置停止作業。即，在上述技術中，可能在后續工序的裝置中，負荷產生大的變化。于是，在后續工序的裝置中，即使在具有碰到上述的變化的峰值時(連續地運送疊層體時)的優良的處理能力的情況下，仍可能因作業停止的影響，無法充分地發揮該優良的處理能力。即，即使在增加后續工序的裝置的設備成本的情況下，仍可能無法充分地謀求生產效率的提高。

本發明是針對上述情況而提出的，本發明的目的在于提供疊置裝置和疊層體的制造方法，在該疊置裝置和疊層體的制造方法中，可通過有效地抑制后續工序的裝置的負荷的變化，既謀求抑制后續工序的裝置的設備成本的增加，又獲得良好的生產效率。

用于解決課題的技術方案

下面分項地對適合于解決上述目的的各技術方案進行說明。另外，根據需要，在對應的方案后面，附有特有的作用效果。

技術方案1.涉及一種疊置裝置，該疊置裝置用于制造疊層體，在該疊層體中，涂敷有正極活性物質的正極箔與涂敷有負極活性物質的負極箔隔著由絕緣性原材料形成的分隔件而交替地疊置，該疊層體包括規定組數的疊層部，每組疊層部由上述正極箔、上述負極箔以及兩個上述分隔件構成，其特征在于，該疊置裝置包括：

轉臺，該轉臺沿周向具有多個可設置規定的工件的工件配置部，并且按照規定的投入位置、規定的作業位置以及規定的取出位置的順序，間歇地使上述工件配置部旋轉移動；

配置機構，該配置機構相對位于上述投入位置的上述工件配置部，設置上述工件；

作業機構，該作業機構相對位于上述作業位置的上述工件，設置上述正極箔、上述負極箔或上述分隔件，每當上述轉臺旋轉一圈時，疊置一組或多組的上述疊層部；

取出機構，該取出機構取出位于上述取出位置且設置有上述規定組數的上述疊層部的上述工件；

控制機構，該控制機構至少控制上述配置機構；