[發(fā)明專利]一種大尺寸磨削晶圓厚度在線測量方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510418516.2 | 申請日: | 2015-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN105140146A | 公開(公告)日: | 2015-12-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 秦飛;孫敬龍;安彤;陳沛;宇慧平;王仲康;唐亮 | 申請(專利權(quán))人: | 北京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京思海天達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11203 | 代理人: | 劉萍 |
| 地址: | 100124 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 尺寸 磨削 厚度 在線 測量方法 | ||
1.一種大尺寸磨削晶圓厚度在線測量方法,其特征在于:晶圓傳輸?shù)秸婵瘴P上吸附之前,先在吸盤(6)表面平鋪直徑大于晶圓直徑的開孔鋁片(7);然后將電容傳感器(4)安裝在傳感器懸臂支架上(5),傳感器探頭與鋁片之間距離(11)為1mm;采用屏蔽線(10)將鋁片、電容傳感器(4)和電容檢測裝置連接在一起,形成電容回路,標(biāo)定出電容傳感器電極板與鋁片之間距離H;當(dāng)晶圓(3)吸附在鋁片上方時,電容量將發(fā)生變化;磨削過程隨晶圓表面材料不斷去除,晶圓厚度也隨之發(fā)生變化,電容量也不斷變化;建立電容量與晶圓厚度之間的關(guān)系,通過監(jiān)測電容變化實現(xiàn)對晶圓厚度的實時全面監(jiān)測。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大尺寸磨削晶圓厚度在線測量方法,其特征在于,鋁片(7)表面開通孔,鋁片厚度范圍0.2~0.4cm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種大尺寸磨削晶圓厚度在線測量方法,其特征在于,鋁片表面開孔方式為機械開孔,開孔位置對應(yīng)吸盤上吸孔位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大尺寸磨削晶圓厚度在線測量方法,其特征在于,電容傳感器(4)沿晶圓徑向分布,電容傳感器探頭為圓形,電極板半徑為2.5~3cm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大尺寸磨削晶圓厚度在線測量方法,其特征在于,電容傳感器懸臂支架(5)為非導(dǎo)電材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大尺寸磨削晶圓厚度在線測量方法,其特征在于,電容回路所采用連接線為屏蔽線(10)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大尺寸磨削晶圓厚度在線測量方法,其特征在于,晶圓厚度與電容之間的關(guān)系為:
式中d為晶圓任意時刻厚度,S為電容傳感器電極板有效面積,C為電容量,H為電容傳感器極板與鋁片的距離,ε0為真空中介電常數(shù),ε為空氣介電常數(shù),εr為晶圓介電常數(shù)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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