[發明專利]一種純堿鑄鐵塔改進結構

在審

• 申請號: 201510418113.8
• 申請日: 2015-07-16
• 公開（公告）號: CN104984558A
• 公開（公告）日: 2015-10-21
• 發明（設計）人: 侯延川;徐文軍;齊國軍;何文光
• 申請（專利權）人: 三門峽化工機械有限公司
• 主分類號: B01D3/00
• 分類號: B01D3/00;B01D3/18;B01D53/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及純堿制造工藝中所使用的鑄鐵塔類設備領域，具體為純堿生產的吸收工段、蒸餾工段鑄鐵塔設備中塔圈及內件的結構改進。

背景技術

??隨著國家經濟的轉型，科技技術的進步受到人們的高度重視，新工藝、新技術、新產品是企業創新的重點。而如何降低生產成本，提高生產效率，一直是各個企業在生產中的重要發展方向，尤其是對于一些傳統行業來說，改革與創新已經是刻不容緩。

制堿業，較為傳統的一個行業，鑄鐵塔類設備是純堿生產中使用的關鍵設備，在純堿生產的吸收工段、蒸餾工段中起到液體介質與氣態介質的交換吸收作用；傳統設備由于結構問題，使氣體與液體的接觸面積小，存在著吸收效率不高的問題。

因此，提供一種結構合理、氣液交換面積大、吸收效率高，能夠大大提高純堿生產效率的純堿鑄鐵塔，已經是一個急需解決的問題。

發明內容

為了克服上述現有技術中存在的不足，本發明提供了通過純堿鑄鐵塔中塔圈及內件的結構改進，在內件上保持一定液面，氣體從下部上升時，穿過液體鼓泡逸出，實現氣液交換，達到充分吸收的效果，這種新型純堿鑄鐵塔結構大大提高了純堿的生產效率。

本發明的目的是這樣實現的：

一種純堿鑄鐵塔改進結構，包括塔圈5，設置在塔圈5下方且與塔圈5對應設置的塔圈1，所述的塔圈5與塔圈1通過螺栓固定連接，其特征在于：所述的塔圈5與塔圈1中間水平設置有塔盤2，塔盤2上安裝有溢流板4、錐塞6和泡罩7；

所述的錐塞6設置在塔盤2上，塔盤2上安裝有泡罩7，泡罩7通過泡罩固定螺栓8與塔盤2連接；

在塔盤2上裝配有溢流板4，以溢流板的高度來確定液面的高度，液面的高度要超過泡罩7的下沿以確保水封，使氣體不至短路。

所述的塔圈5與塔圈1上分別設置有人孔9；

所述的塔盤2與塔圈5和塔圈1連接處設置有墊片3。

每臺設備包括由上述所述的結構多層疊加而成。

積極有益效果：本發明通過將傳統的鑄鐵塔內件形狀、數量的改變，使氣相、液相充分接觸、交換，提高液體對氣體的吸收率；結構形狀簡單，便于設備清洗、保養，大大提高了生產效率，降低了生產成本，提高了企業的市場競爭力。

附圖說明

圖1為本發明的結構示意圖一；

圖2為本發明的結構示意圖二；

圖3為圖1中局部放大圖；

圖中為：塔圈1、塔盤2、墊片3、溢流板4、塔圈5、錐塞6、泡罩7、泡罩固定螺栓8、人孔9。

具體實施方式

下面結合附圖，對本發明做進一步的說明：

如圖1、圖2所示，一種純堿鑄鐵塔改進結構，包括塔圈5，設置在塔圈5下方且與塔圈5對應設置的塔圈1，所述的塔圈5與塔圈1通過螺栓固定連接，其特征在于：所述的塔圈5與塔圈1中間水平設置有塔盤2，塔盤2上設置有溢流板4、錐塞6和泡罩7；

所述的錐塞6設置在塔盤2上，塔盤2的升氣管上設置有泡罩7，泡罩7通過泡罩固定螺栓8與塔盤2連接；

所述的塔圈5與塔圈1上分別設置有人孔9；

如圖3所示，所述的塔盤2與塔圈5和塔圈1接觸面處設置有墊片3。

墊片3的設置，起到了很好的密封效果；溢流板4、錐塞6、泡罩7裝配在塔盤2上；溢流板4決定液體的液面高度，?泡罩7控制氣體流動方向，?人孔9便于人員進行設備內部進行清理部件內結疤或更換內部部件，?錐塞6在檢修時打開，清理液體殘留物；如圖1、圖2所示，圖1是一個單元，多個單元的疊加，組成整臺設備，每臺設備中單元數的多少，依據設備在純堿生產環節中所要求的制堿工藝參數所確定。

液體從上部塔圈5溢流而下，在塔盤上通過溢流板形成一定液面，氣體從下部塔圈1之下上升，通過塔盤上的升氣管，又通過液體從泡罩邊沿鼓泡逸出，使氣體在液體中行走的路程長且分散，達到充分接觸、充分吸收的作用。

????如圖1所示，圖中標明了氣體流動方向及通道、液體流動方向及通道，其溢流板及泡罩安裝高度都是可調的，可依據工藝參數要求在安裝時進行調整，液面與泡罩的相對高度，決定了氣相與液相接觸的情況；此結構與現有純堿鑄鐵塔相比，氣液交換面積顯著增加，從而大幅度提高了設備的生產效率；

本發明通過將傳統的鑄鐵塔內件形狀、數量的改變，使氣相、液相充分接觸交換，提高液體對氣體的吸收率；結構形狀簡單，便于設備清洗、保養，大大提高了生產效率，降低了生產成本，提高了企業的市場競爭力。

以上所述，僅是本發明的較佳實例而已，并非對本發明作任何形式上的限制，凡是依據本發明的技術實質對以上實例所作的任何簡單修改，等同變化與修飾，均仍屬于本發明技術方案的范圍之內。