[發(fā)明專利]顯示裝置以及使用掩模制造顯示裝置的方法

有效

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• 申請日: 2015-07-15
• 公開（公告）號: CN105389033B
• 公開（公告）日: 2018-09-11
• 發(fā)明（設計）人: 樸燦;樸正權;全庠垠;趙興柱
• 申請（專利權）人: 樂金顯示有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G02F1/1333
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權代理有限公司 11127
• 代理人: 呂俊剛;劉久亮

顯示裝置以及使用掩模制造顯示裝置的方法。公開了一種制造具有顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域的顯示裝置的方法，該方法包括以下步驟：使掩模在基板上方對準，該掩模包括中心屏蔽部分、該中心屏蔽部分外側(cè)的周邊屏蔽部分、開口中的保持部分以及該保持部分下方的擴散區(qū)域，中心屏蔽部分與周邊屏蔽部分之間有開口，保持部分將中心屏蔽部分與周邊屏蔽部分連接，擴散區(qū)域由掩模在中心屏蔽部分和周邊屏蔽部分中的一個與保持部分之間的厚度差來限定；通過掩模在基板上沉積導電材料，以在非顯示區(qū)域中形成圍繞顯示區(qū)域的單件環(huán)形導電通路；以及在基板上形成透明導電層，該透明導電層連續(xù)地形成在顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域中并且被形成為與單件環(huán)形導電通路直接接觸。

技術領域

本發(fā)明涉及顯示裝置以及使用掩模制造顯示裝置的方法。更具體地講，本公開涉及一種包括連續(xù)、單件、環(huán)形導電通路的顯示裝置。

背景技術

目前，有兩種方式來形成連續(xù)環(huán)形的金屬布線。

第一種方法是噴墨方法，其中利用噴嘴將金屬顆?；蝾伭嫌∷⒃谀繕吮砻嫔?。這種方法以下稱作“噴射”。在該方法中，期望的形狀可通過調(diào)節(jié)噴嘴的位置和移動速度以及噴射率來自由地形成。各種因素可影響金屬顏料在目標表面上的粘附性。因此，噴射方法常常需要通過應用熱能來保持粘附在目標表面上的金屬顏料的諸如固化或烘干的附加工藝。然而，在一些情況下，可能即使使用固化或烘干工藝也無法獲得期望的粘附性，在隨后的多個工藝期間利用金屬顏料形成的金屬布線可能從表面剝離。另外，噴射方法中使用的噴孔的大小可限制金屬布線的寬度，使得難以從金屬布線獲得期望的電性質(zhì)。

第二種方式是利用濺射現(xiàn)象將導電材料沉積到基板的表面上。這種方式以下稱作濺射。濺射是一種物理氣相沉積(PVD)方法。濺射涉及通過高能粒子(例如，等離子體的正離子)來轟擊源材料，使得原子從源材料被逐出(eject)并沉積在目標表面上。

通常，從源材料逐出的原子被沉積到基板的通過掩模的開口暴露的區(qū)域上。在該方法中，可通過在進行濺射工藝的同時調(diào)節(jié)掩模距目標表面的距離來控制金屬布線的寬度和厚度。盡管濺射方法使得能夠提供比噴射方法更寬的金屬布線，但是濺射方法的圖案化機制使得難以形成連續(xù)環(huán)形圖案的金屬布線。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明涉及提供一種顯示裝置以及使用掩模制造該顯示裝置的方法，其基本上消除了由于現(xiàn)有技術的限制和缺點而引起的一個或更多個問題。

本發(fā)明的優(yōu)點涉及提供一種包括連續(xù)、單件、環(huán)形導電通路的顯示裝置。

本發(fā)明的附加特征和優(yōu)點將在以下描述中闡述，并且部分地將從所述描述而顯而易見，或者可通過本發(fā)明的實踐學習。本發(fā)明的這些和其它優(yōu)點將通過在所撰寫的說明書及其權利要求書以及附圖中特別指出的結(jié)構來實現(xiàn)和達到。

為了實現(xiàn)這些和其它優(yōu)點并且根據(jù)本發(fā)明的目的，如具體實現(xiàn)并廣義描述的，一種顯示裝置可例如包括：基板，其具有顯示區(qū)域以及在所述顯示區(qū)域外側(cè)的非顯示區(qū)域；單件環(huán)形導電通路，其在所述基板上的所述非顯示區(qū)域中圍繞所述顯示區(qū)域；以及透明導電層，其連續(xù)地設置在所述顯示區(qū)域和所述非顯示區(qū)域中并且與所述單件環(huán)形導電通路直接接觸，其中，所述單件環(huán)形導電通路包括由相同導電材料制成的第一部分和第二部分，其中，所述第二部分中的所述單件環(huán)形導電通路在厚度方向上具有所述導電材料的多個凹陷，并且其中，介于所述多個凹陷之間的所述導電材料的厚度基本上等于所述第一部分的厚度。