[發(fā)明專利]曝光裝置及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510416093.0
• 申請(qǐng)日: 2015-07-15
• 公開（公告）號(hào): CN106707691B
• 公開（公告）日: 2018-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝仁飚;楊志勇;白昂力;王健
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G02B27/09
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時(shí)云

1.一種曝光裝置，包括曝光單元，用于對(duì)晶圓進(jìn)行曝光；所述曝光單元包括照明系統(tǒng)和掩模，所述照明系統(tǒng)包括勻光單元，其特征在于，所述勻光單元包括正六邊形的勻光石英棒，所述掩模的形狀為與所述勻光石英棒相匹配的正六邊形。

2.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，還包括泛曝光單元，用于對(duì)曝光后的晶圓進(jìn)行泛曝光。

3.如權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，所述泛曝光單元，包括物料支撐結(jié)構(gòu)，用于承載曝光后的晶圓；泛曝光源，提供泛曝光能量；泛曝光控制單元，用于控制所述泛曝光源的打開或閉合，以及控制所述泛曝光源打開或閉合的時(shí)間。

4.如權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，所述泛曝光源密閉設(shè)置在所述物料支撐結(jié)構(gòu)的下方，以阻止外部光源進(jìn)入泛曝光單元。

5.如權(quán)利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，所述物料支撐結(jié)構(gòu)向下兼容設(shè)置，以用于承載所有規(guī)格尺寸的晶圓。

6.如權(quán)利要求2或3或4或5所述的曝光裝置，其特征在于，還包括晶圓盒單元，用于存放晶圓；提取單元，用于提取晶圓；預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元，用于將提取的晶圓進(jìn)行對(duì)位；曝光單元，通過(guò)正六邊形的勻光石英棒和掩模將對(duì)準(zhǔn)后的晶圓進(jìn)行曝光。

7.如權(quán)利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述提取單元為旋轉(zhuǎn)機(jī)械手。

8.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述晶圓為藍(lán)寶石襯底或硅襯底或鍺硅襯底。

9.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述照明系統(tǒng)，還依次包括光源、聚光單元、中繼單元，所述勻光單元位于所述聚光單元與所述中繼單元之間。

10.如權(quán)利要求9所述的曝光裝置，其特征在于，所述照明系統(tǒng)，還包括設(shè)置在所述勻光單元與所述中繼單元之間的可動(dòng)刀口，用于開啟或關(guān)閉光源以及調(diào)節(jié)光源經(jīng)聚光單元的照射視場(chǎng)大小。

11.一種曝光方法，其特征在于，至少包括以下步驟：將照明系統(tǒng)的勻光單元中的勻光石英棒設(shè)計(jì)成正六邊形形狀，將掩模的形狀設(shè)計(jì)成與所述勻光石英棒相匹配的正六邊形的步驟進(jìn)行曝光。

12.如權(quán)利要求11所述的曝光方法，其特征在于，在曝光步驟之后，還增加了泛曝光的步驟，使經(jīng)過(guò)泛曝光的圖形變成規(guī)則的柱形形狀。

13.如權(quán)利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光方法，至少包括以下步驟：提取步驟，用于提取晶圓；預(yù)對(duì)準(zhǔn)步驟；將晶圓進(jìn)行對(duì)位；曝光步驟，通過(guò)正六邊形的勻光石英棒和掩模將對(duì)準(zhǔn)后的晶圓進(jìn)行曝光。

14.如權(quán)利要求11所述的曝光方法，其特征在于，在曝光時(shí)，采用對(duì)晶圓的表面形貌特征進(jìn)行連續(xù)多次測(cè)量后，然后一次性對(duì)晶圓進(jìn)行曝光的步驟。

15.如權(quán)利要求14所述的曝光方法，其特征在于，所述測(cè)量的具體步驟為：采用垂向測(cè)量裝置連續(xù)多次測(cè)量晶圓的表面形貌特征，將載片運(yùn)動(dòng)臺(tái)與所述垂向測(cè)量裝置的測(cè)量結(jié)果進(jìn)行匹配，擬合并計(jì)算出每一個(gè)視場(chǎng)相對(duì)于最佳焦面的傾斜度。

16.如權(quán)利要求14所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光的具體步驟為：通過(guò)載片運(yùn)動(dòng)臺(tái)的垂向傳感器控制晶圓的最佳焦面，一次性的進(jìn)行步進(jìn)曝光。