[發明專利]用于調光器件的鈀鈮催化薄膜材料、具有該材料的調光鏡、及其制備方法

在審

• 申請號: 201510415931.2
• 申請日: 2015-07-15
• 公開（公告）號: CN106702325A
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發明（設計）人: 包山虎;金平實;張小麗;幸云川
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海硅酸鹽研究所
• 主分類號: C23C14/18
• 分類號: C23C14/18;G02F1/01
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙)31261
• 代理人: 曹芳玲,鄭優麗

1.一種用于調光器件的鈀鈮催化薄膜材料，其特征在于，所述薄膜材料是Pd-Nb合金薄膜，化學組成為Pd_100-xNb_x，其中0＜x＜20。

2.根據權利要求1所述的鈀鈮催化薄膜材料，其特征在于，所述薄膜材料的厚度在1～10 nm之間。

3.一種調光鏡，其特征在于，包括：

基片、

形成在所述基片上的氣致變色的調光層、和

形成于所述調光層表面上的根據權利要求1或2所述的鈀鈮催化薄膜材料。

4.根據權利要求3所述的調光鏡，其特征在于，所述調光層為稀土金屬薄膜或鎂合金薄膜，所述鎂合金薄膜為鎂二元合金材料MgM_δ或鎂三元合金材料MgM_yN_z，其中M為Ni、Ti、V、Nb、Y、Zr、Mo、Cu、V、Co、Mn、W、Fe、La、Ca、Sr、和Ba中的任意一種，N為Ni、Ti、V、Nb、Y、Zr、Mo、Cu、V、Co、Mn、和W中的任意一種，0＜δ＜1，0＜y＜1，0＜z＜1。

5.根據權利要求3或4所述的調光鏡，其特征在于，所述調光層的厚度在10～200 nm之間。

6.根據權利要求3至5中任一項所述的調光鏡，其特征在于，所述基片為玻璃、柔性基片、導電玻璃、金屬片、或硅基片。

7.一種權利要求1或2所述的鈀鈮催化薄膜材料的制備方法，其特征在于，利用物理氣相沉積法共濺射沉積純金屬Pd與Nb，以獲得所述鈀鈮催化薄膜材料。

8.一種權利要求3至5中任一項所述的調光鏡的制備方法，其特征在于，通過物理氣相沉積法在所述基片共濺射沉積調光層后，原位共濺射沉積鈀鈮催化薄膜材料，以獲得所述調光鏡。

9.根據權利要求7或8所述的制備方法，其特征在于，在所述物理氣相沉積法中，濺射室的本底真空度為10^-5Pa以下。

10.根據權利要求7至9中任一項所述的制備方法，其特征在于，通過調節濺射功率來控制調光層和/或鈀鈮催化薄膜材料的組分，通過調節濺射時間來控制調光層和/或鈀鈮催化薄膜材料的厚度。