[發(fā)明專利]背照式圖像傳感器的晶圓級封裝方法及其封裝結構在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510413998.2 | 申請日: | 2015-07-14 |
| 公開(公告)號: | CN105118841A | 公開(公告)日: | 2015-12-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 靖向萌;馮光建 | 申請(專利權)人: | 華進半導體封裝先導技術研發(fā)中心有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 殷紅梅;涂三民 |
| 地址: | 214135 江蘇省無錫市新區(qū)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 背照式 圖像傳感器 晶圓級 封裝 方法 及其 結構 | ||
1.一種背照式圖像傳感器的晶圓級封裝方法,其特征是該方法包括以下步驟:
a、在CIS晶圓(1)的正面打出焊柱孔,用電鍍的方式在焊柱孔內沉積出焊柱(2),焊柱(2)與CIS晶圓(1)內的引線(11)導通,再在焊柱(2)的柱頂沉積出導電層(3);
b、在CIS晶圓(1)的正面通過臨時鍵合膠(4)鍵合負載晶圓(5),以負載晶圓(5)為支撐,減薄CIS晶圓(1)的背面,再在CIS晶圓(1)的背面對應圖像傳感器(10)位置添加濾光鏡(6)和微透鏡(7);
c、在CIS晶圓(1)的背面涂上透光膠(8),在透光膠(8)的背面鍵合透光封蓋(9);
d、以透光封蓋(9)為支撐,去除負載晶圓(5)和臨時鍵合膠(4),清洗CIS晶圓(1)上殘留的臨時鍵合膠(4),清洗后,以透光封蓋(9)為支撐進行切割。
2.如權利要求1所述的一種背照式圖像傳感器的晶圓級封裝方法,其特征是:所述導電層(3)的材質為金、銅、鎳、錫或其合金,導電層(3)的厚度為0.1~10μm。
3.如權利要求1所述的一種背照式圖像傳感器的晶圓級封裝方法,其特征是:所述臨時鍵合膠(4)為熱固環(huán)氧樹脂或者UV環(huán)氧樹脂,臨時鍵合膠(4)的厚度為10nm~200μm,且臨時鍵合膠(4)的上膠方式為噴涂方式、掛膠方式、滾膠方式或者直接貼膜方式。
4.如權利要求1所述的一種背照式圖像傳感器的晶圓級封裝方法,其特征是:步驟b中,在CIS晶圓(1)的正面通過臨時鍵合膠(4)鍵合負載晶圓(5)的鍵合方式是熱壓鍵合或者激光輻射方式鍵合。
5.如權利要求5所述的一種背照式圖像傳感器的晶圓級封裝方法,其特征是:所述激光為紫外波段激光、紅外波段激光或者可見光波段激光。
6.如權利要求1所述的一種背照式圖像傳感器的晶圓級封裝方法,其特征是:所述負載晶圓(5)的材質是硅晶圓、有機玻璃、無機玻璃、樹脂、半導體材料、氧化物晶體、陶瓷、金屬、有機塑料、無機氧化物或者陶瓷材料,負載晶圓(5)的厚度為200~600μm。
7.如權利要求1所述的一種背照式圖像傳感器的晶圓級封裝方法,其特征是:所述透光膠(8)為環(huán)氧樹脂、有機硅膠、酸性玻璃膠或者酚醛樹脂,透光膠(8)的厚度為50~100μm,且透光膠(8)的上膠方式為噴涂方式、掛膠方式、滾膠方式或者直接貼膜方式。
8.如權利要求1所述的一種背照式圖像傳感器的晶圓級封裝方法,其特征是:所述透光封蓋(9)的材質為有機玻璃、無機玻璃、陶瓷、塑料或者有機薄膜,透光封蓋(9)的厚度為100~500μm。
9.如權利要求1所述的一種背照式圖像傳感器的晶圓級封裝方法,其特征是:步驟c中,在透光膠(8)的背面鍵合透光封蓋(9)的鍵合方式是熱壓鍵合或者輻射方式鍵合。
10.一種背照式圖像傳感器的晶圓級封裝結構,其特征是:它包括CIS晶圓(1)、焊柱(2)、導電層(3)、臨時鍵合膠(4)、負載晶圓(5)、濾光鏡(6)、微透鏡(7)、透光膠(8)、透光封蓋(9)、圖像傳感器(10)與引線(11);在CIS晶圓(1)的正面通過臨時鍵合膠(4)連接有負載晶圓(5),在CIS晶圓(1)的背面連接有透光膠(8),在透光膠(8)的背面連接有透光封蓋(9),在CIS晶圓(1)內設有焊柱(2)、導電層(3)、濾光鏡(6)、圖像傳感器(10)與引線(11),在圖像傳感器(10)的背面設有濾光鏡(6),在濾光鏡(6)的背面設有微透鏡(7),微透鏡(7)嵌入透光膠(8)內,圖像傳感器(10)的正面與引線(11)的下端部相連,引線(11)的上端部與焊柱(2)的下端部相連,焊柱(2)的上端面與導電層(3)的背面相連,導電層(3)的正面與CIS晶圓(1)的正面平齊。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





