[發明專利]不同深度微結構的一次性制造方法

在審

• 申請號: 201510413446.1
• 申請日: 2015-07-14
• 公開（公告）號: CN105171999A
• 公開（公告）日: 2015-12-23
• 發明（設計）人: 賀永;肖簫;傅建中;吳燕
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: B29C39/02
• 分類號: B29C39/02;B29C39/22;B29C33/38;G03F7/20
• 代理公司: 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224
• 代理人: 黃燕

1.一種不同深度微結構的一次性同步制造方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)在掩膜基底上制作灰度圖像，得到掩膜；

(2)將掩膜放置在光敏印章機上，對其中的光敏印章墊進行曝光，得到具有不同高度凸起微結構的光敏印章墊；

可選擇的進入步驟(3)；

(3)將壓模材料澆注在具有不同高度凸起微結構的光敏印章墊上，固化成型，脫離得到帶有不同深度微結構的壓膜。

2.根據權利要求1所述的不同深度微結構的一次性同步制造方法，其特征在于，所述掩膜基底為半透明的硫酸紙或菲林膜，利用激光或噴墨打印機在掩膜基底上制作灰度圖像。

3.根據權利要求2所述的不同深度微結構的一次性同步制造方法，其特征在于，壓模材料為硅膠。

4.根據權利要求1所述的不同深度微結構的一次性同步制造方法，其特征在于，曝光功率為85-87，曝光次數為3-6。

5.根據權利要求1所述的不同深度微結構的一次性同步制造方法，其特征在于，在制作掩膜前，進行如下操作：

(i)在整個灰度區間內取若干各不相同的灰度值，在掩膜基底上繪制采用這些灰度值的圖樣；

(ii)將掩膜安裝在光敏印章機上，在工作曝光條件下，對光敏印章墊進行曝光，得到具有不同高度凸起的光敏印章墊；檢測光敏印章墊上凸起的高度，并與步驟(i)上的對應圖樣的灰度關聯，建立數據庫，供制作灰度圖像時使用；

可選擇的進入步驟(iii)和(iv)：

(iii)將壓模材料澆注在具有不同高度凸起的光敏印章墊上，固化成型，脫離得到帶有不同深度凹陷的壓膜；

(iv)檢測壓膜上不同凹陷的深度，并與步驟(i)上的對應圖樣的灰度關聯，建立數據庫，供制作灰度圖像時使用。

6.根據權利要求5所述的不同深度微結構的一次性同步制造方法，其特征在于，在制作掩膜前，讀取待加工對象的深度數據，根據該深度數據調用所述數據庫，得到對應的灰度數據，進行灰度圖像的制作。

7.根據權利要求6所述的不同深度微結構的一次性同步制造方法，其特征在于，采用三維掃描、表面輪廓儀得到取待加工對象的深度數據，或者采用立體視覺三維重建方法得到待加工對象的深度數據。