[發明專利]一種背接觸太陽能電池及其制備方法有效
| 申請號: | 201510412201.7 | 申請日: | 2015-07-14 |
| 公開(公告)號: | CN105185849B | 公開(公告)日: | 2017-09-15 |
| 發明(設計)人: | 劉運宇;王栩生;邢國強 | 申請(專利權)人: | 蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司;鹽城阿特斯協鑫陽光電力科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0352 | 分類號: | H01L31/0352;H01L31/18 |
| 代理公司: | 蘇州翔遠專利代理事務所(普通合伙)32251 | 代理人: | 陸金星 |
| 地址: | 215129 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 接觸 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及太陽能應用技術領域,具體涉及一種背接觸太陽能電池及其制備方法,尤其涉及一種IBC太陽能電池。
背景技術
常規的化石燃料日益消耗殆盡,在現有的可持續能源中,太陽能無疑是一種最清潔、最普遍和最有潛力的替代能源。太陽能電池,也稱光伏電池,是一種將太陽的光能直接轉化為電能的半導體器件。由于它是綠色環保產品,不會引起環境污染,而且是可再生資源,所以在當今能源短缺的情形下,太陽能電池是一種有廣闊發展前途的新型能源。
太陽能電池的種類繁多,其中,IBC(Interdigitated back contact,叉指背接觸)太陽能電池以其較高的轉換效率、較低的串聯電阻、簡化的互聯技術及良好的外觀等優點受到越來越多業內人士的關注,成為太陽能電池技術領域較為前沿的高效電池技術之一。
以N型IBC太陽能電池為例,如圖1所示,IBC太陽能電池的基本結構包括:N型的硅片基體100,覆蓋在硅片基體100正面的N+層101和減反射層102,N+層101位于硅片基體100與減反射層102之間;位于硅片基體100背面、間隔排列的、柵狀的N+第一導電指區103和P+第二導電指區104,第二導電指區104與硅片基體100結合形成電池的發射極;位于第一導電指區背離硅片基體100一側表面上的第一電極105,位于第二導電指區104背離硅片基體100一側表面上的第二電極106。
然而,上述結構的IBC太陽能電池存在如下問題:由于正電極和負電極的距離較近,對絲網印刷電極的精度要求非常高,實際制備過程中經常出現電極印偏、以及印刷好的金屬漿料發生偏移而導致正電極和負電極短路的情況,導致電池的穩定性較差。
因此,開發一種穩定性好、制備工藝簡單、成本較低的IBC太陽能電池,使其可以利用現有條件和設備,在基本不增加成本的基礎之上進一步提升其轉化效率,具有積極的現實意義。
發明內容
本發明目的是提供一種背接觸太陽能電池及其制備方法。
為達到上述目的,本發明采用的技術方案是:一種背接觸太陽能電池,包括硅片基體,硅片基體背面上間隔設有N+第一導電區和P+第二導電區;N+第一導電區上設有第一電極,P+第二導電區上設有第二電極;
所述N+第一導電區和P+第二導電區之間設有隔離區;
所述隔離區的高度高于N+第一導電區和P+第二導電區。
優選的,所述第一電極和第二電極的頂面處于同一水平面上,且所述隔離區的頂面高于第一電極和第二電極的頂面。
優選的,所述N+第一導電區和P+第二導電區為凹陷區。
優選的,所述N+第一導電區和P+第二導電區為拋光面。
優選的,所述隔離區的頂面上具有絨面和鈍化層。即利用背面一起做成雙玻組件,可更多利用背面的散射光。
上述技術方案中,所述隔離區的寬度為10~200微米。優選的,所述隔離區的寬度為50~200微米。
上述技術方案中,所述隔離區的頂面高出第一電極和第二電極的頂面5~10微米。
上述技術方案中,所述隔離區為未摻雜區域。
本發明同時請求保護一種背接觸太陽能電池的制備方法,包括如下步驟:
(1)對硅片進行制絨;
(2)在電池背面要形成N+第一導電區的區域進行腐蝕,形成第一凹陷區;
(3)在第一凹陷區進行摻雜,形成N+第一導電區;
(4)在電池背面要形成P+第二導電區的區域進行腐蝕,形成第二凹陷區;
(5)在第二凹陷區進行摻雜,形成P+第二導電區;
(6)在電池受光面和背面分別形成鈍化層;
(7)在電池受光面和背面沉積氮化硅;
(8)在鈍化層上對應電極形成的位置設置開口;
(9)在所述開口位置形成電性相反的電極。
優選的,所述步驟(2)和步驟(4)中還包括以下步驟:對凹陷區進行拋光處理。
上述技術方案中,所述步驟(2)和步驟(4)形成凹陷區的方法可以采用腐蝕性漿料、腐蝕性溶液、激光中的一種。
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