[發明專利]共改性LDS添加劑及含該添加劑的天然橡膠組合物在審
| 申請號: | 201510410064.3 | 申請日: | 2015-07-11 |
| 公開(公告)號: | CN104945665A | 公開(公告)日: | 2015-09-30 |
| 發明(設計)人: | 劉帥 | 申請(專利權)人: | 劉帥 |
| 主分類號: | C08K9/10 | 分類號: | C08K9/10;C08K3/22;C08L7/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 235100 安徽省淮北市濉*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 改性 lds 添加劑 天然橡膠 組合 | ||
技術領域
本發明涉及共改性LDS添加劑,還涉及LDS添加劑的改性方法,以及含有該LDS添加劑的組合物。
背景技術
激光直接成型(LDS)技術是指利用計算機控制激光掃描的區域,將激光照射到含有激光敏感添加劑的制件上,活化出電路圖案,該制件上被活化的區域可以在無電化學鍍中沉積金屬銅、鎳、金等金屬,從而實現在三維塑料制件上制造出導電圖案。
隨著激光直接成型(LDS)技術的快速發展,模塑互聯器件(Moulded?Interconnect?Device)的生產速度更迅捷,流程更簡化,成本更可控,應用領域更寬廣,其最大的優勢在于,它能夠減少電子產品的元器件數量并節約空間。比如,采用LDS技術制造的天線被廣泛地應用在智能手機、筆記本電腦等移動終端上,采用LDS技術制造的傳感器,最小導線寬度可達150μm,最小線間寬度可達150μm,這不但減少了元器件的數量,還達到了節約空間和減重的目的。
此外,LDS技術的優勢還體現在它的靈活性上。如果需要改變元器件上導電路徑,只需要更改CAD中的電路圖形設計即可,不需重新設計模具。因為LDS技術不需要掩膜,所以其加工過程更加簡便,加工成本更低。應用于LDS技術的材料科學也得到了快速的發展。樹脂基體覆蓋了通用塑料、工程塑料以及特種工程塑料。其中比較典型的應用是聚碳酸酯、聚碳酸酯與丙烯腈/丁二烯/苯乙烯的合金,用它們來制作的LDS天線已經廣泛地應用在智能手機、平板電腦以及筆記本電腦上。
但是,現有技術中制備得到的塑料制件上的金屬薄膜附著力不強,雖然大部分金屬薄膜的百格測試基本在4-10%,但是,隨著金屬薄膜的所處環境越來越惡劣、廠家對廢品率的嚴格要求、消費者對質量的苛刻要求,金屬薄膜的附著力需要能通過各種復雜和嚴格的測試,而現有技術的LDS材料無法滿足該要求。
發明內容
為了解決上述技術問題,本發明的目的之一為提供一種共改性LDS添加劑。
共改性LDS添加劑,包括100重量份的激光敏感化合物和10-30重量份的含硝基改性化合物,所述含硝基改性化合物部分包覆于所述激光敏感化合物表面,所述激光敏感化合物的化學通式為XY2O4,激光敏感化合物為等軸晶系,X與Y均為金屬元素,X與Y來自元素周期表中第ⅢA族、ⅠB族、ⅡB族、ⅥB族、ⅦB族、或Ⅷ族;
所述含硝基改性化合物的化學結構式如下:
所述m為0-5的整數,X為具有硝基基團的一價基團或羥基,所述X在吡啶環上的位置為磺酸基團的鄰位或間位或對位。
作為本發明的一種技術方案,本發明所述的共改性LDS添加劑還包括含羧基改性化合物,所述含羧基改性化合物的化學結構式如下:
所述m為0-5的整數,X為具有羧基基團的一價基團或羧基,所述X在吡啶環上的位置為磺酸基團的鄰位或間位或對位。
作為本發明的一種技術方案,本發明所述含羧基改性化合物與含硝基改性化合物的質量比為1:0.5-2。
作為本發明的一種技術方案,本發明所述的共改性LDS添加劑還包括1-10重量份的金屬氫氧化物,所述金屬氫氧化物部分包覆于激光敏感化合物表面。
作為本發明的一種技術方案,本發明所述金屬氫氧化物與含硝基改性化合物的質量比為1:3-5。
作為本發明的一種技術方案,本發明所述的激光敏感化合物的粒徑為1-50微米。
共改性LDS添加劑的制備方法,包括以下步驟:
S10、將100重量份激光敏感化合物、10-30重量份含硝基改性化合物中超聲分散5~30min,得到乳濁液;
S20、將所得的乳濁液在50~90℃下攪拌5~30min后,溫度保持在70-85℃,繼續反應2~4h;
S30、所得到的溶膠經離心分離后分別用去離子水、無水乙醇各洗滌4次,再在90℃下烘干獲得前驅體粉末;
S40、將干燥后的前驅體粉末放置在150~200℃下煅燒2~3h得到共改性LDS添加劑。
作為本發明的一種技術方案,本發明所述的S10步驟還包括含羧基改性化合物,所述含羧基改性化合物與含硝基改性化合物的質量比為1:0.5-2。
作為本發明的一種技術方案,本發明所述的S10步驟還包括以金屬氫氧化物為質量計算,以金屬氫氧化物計,1-10重量份的金屬氯化物,在S20步驟之后還包括S201步驟:緩慢滴加30重量份碳酸銨沉淀劑溶液,繼續反應2~4h。
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