[發明專利]光源系統及投影裝置

有效

• 申請號: 201510409924.1
• 申請日: 2011-12-08
• 公開（公告）號: CN104977790A
• 公開（公告）日: 2015-10-14
• 發明（設計）人: 楊毅
• 申請（專利權）人: 深圳市光峰光電技術有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20;G02B27/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光源系統，其特征在于，所述光源系統包括：

藍光激光光源，用于產生一藍光激光；

校正光源，所述校正光源用于產生一校正光；

合光裝置，用于對所述藍光激光和所述校正光進行合光，以使得所述藍光激光和所述校正光的混合光的色坐標相較于所述藍光激光的色坐標更接近預定的藍光色坐標；

所述合光裝置包括分光濾光片、反射罩、反射鏡以及光收集裝置，所述反射罩包括開口和弧形反射面，所述藍光激光和所述校正光中的一個經所述分光濾光片反射后從所述開口入射到所述反射鏡，并經所述反射鏡反射到所述弧形反射面，再經所述弧形反射面反射到所述光收集裝置，所述藍光激光和所述校正光中的另一個經所述分光濾光片透射后從所述開口入射到所述反射鏡，并經所述反射鏡反射到所述弧形反射面，再經所述弧形反射面反射到所述光收集裝置，進而對所述藍光激光和所述校正光進行合光；

色輪，所述色輪至少包括一反射式的波長轉換區；

所述反射鏡設在所述色輪上為構成所述色輪的區之一，所述藍光激光激發波長轉換區發出的受激光被反射至所述弧形反射面，再經所述弧形反射面反射到所述光收集裝置。

2.根據權利要求1所述的光源系統，其特征在于，所述反射鏡朝向所述反射罩的一側設置有散射材料或散射結構，對校正光和藍光激光進行散射。

3.根據權利要求1所述的光源系統，其特征在于，所述分光濾光片對所述校正光進行光譜修飾，并將進行光譜修飾后的所述校正光與所述藍光激光進行合光。

4.根據權利要求1所述的光源系統，其特征在于，在CIE色品圖上，與所述藍光激光進行合光的校正光的色坐標位于所述藍光激光的色坐標到根據所述預定的藍光色坐標設置的所述混合光的色坐標的取值范圍的兩個端點連線的延長線、CIE色品圖的色品圖邊緣以及所述兩個端點之間的連線所定義的封閉區域內，所述封閉區域內的校正光色坐標的Y軸坐標大于所述混合光色坐標Y軸坐標。

5.根據權利要求4所述的光源系統，其特征在于，所述混合光的色坐標的X軸坐標大于等于0.14且小于等于0.18，所述混合光的色坐標的Y軸坐標大于等于0.03且小于等于0.08。

6.根據權利要求5所述的光源系統，其特征在于，所述混合光的色坐標的X軸坐標大于等于0.155且小于等于0.165，且Y軸坐標等于0.06。

7.根據權利要求1所述的光源系統，其特征在于，將所述校正光為藍光、藍綠光以及綠光中的一種或兩種以上的任意組合。

8.根據權利要求1所述的光源系統，其特征在于，所述校正光源為LED。

9.根據權利要求1-8任意一項所述的光源系統，其特征在于，所述分光濾光片對所述校正光和/或所述藍光激光進行光譜修飾。

10.一種投影裝置，其特征在于，所述投影裝置包括權利要求1-9任意一項所述的光源系統。