[發明專利]包含自組裝嵌段共聚物的膜和通過旋涂法(IIa)制備該膜的方法

有效

• 申請號: 201510409904.4
• 申請日: 2015-04-30
• 公開（公告）號: CN105273221B
• 公開（公告）日: 2018-08-10
• 發明（設計）人: 卡萊德·阿卜戴爾-哈吉姆·阿穆爾;S·石
• 申請（專利權）人: 帕爾公司
• 主分類號: C08J9/28
• 分類號: C08J9/28;C08J7/04;C09D153/00;C03C17/32;C04B41/48
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 汪宇偉

1.一種制備包含式(I)或(II)的嵌段共聚物的多孔膜的方法：

其中：

R¹是C₁-C₂₂烷基，可選地被選自鹵素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基所取代，或者C₃-C₁₁環烷基，可選地被選自烷基、鹵素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基所取代；

R²是C₆-C₂₀芳基或雜芳基，可選地被選自羥基、氨基、鹵素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基所取代；

R³和R⁴之一是C₆-C₁₄芳基，可選地被選自羥基、鹵素、氨基以及硝基的取代基所取代，以及R³和R⁴的另一個是C₁-C₂₂烷氧基，可選地被選自羧基、氨基、巰基、炔基、烯基、鹵素、疊氮基以及雜環基的取代基所取代；以及

n和m獨立地是10至2000；0<x≤n以及0<y≤m；

該方法包含：

(i)將嵌段共聚物溶解于溶劑體系中，獲得聚合物溶液；

(ii)將聚合物溶液旋涂到基材上；以及

(iii)將(ii)中所得涂層退火，獲得自組裝結構或多孔膜。

2.根據權利要求1的方法，其中，R¹是C₁₀-C₁₈烷基，可選地被選自鹵素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基所取代。

3.根據權利要求1或2的方法，其中，R²是苯基，可選地被選自羥基、氨基、鹵素、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、酰氨基以及硝基的取代基所取代。

4.根據權利要求1或2的方法，其中，R³是苯基。

5.根據權利要求1或2的方法，其中，R⁴是C₁-C₆烷氧基。

6.根據權利要求1或2的方法，其中，n是10至200以及m是50至2000。

7.根據權利要求1或2的方法，其中，n是83至190以及m是675至1525。

8.根據權利要求1或2的方法，其中，n是105以及m是870。

9.根據權利要求1或2的方法，其中，式(I)的嵌段共聚物具有下列結構：

10.根據權利要求1或2的方法，其中，所述溶劑體系包括選自鹵代烴類、醚類、酰胺類和亞砜類的溶劑或溶劑混合物。

11.根據權利要求1或2的方法，其中，所述溶劑體系包括選自二氯甲烷、1-氯戊烷、1,1-二氯乙烷、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亞砜、四氫呋喃、1,3-二氧六環和1,4-二氧六環的溶劑或溶劑混合物。

12.根據權利要求1或2的方法，其中，所述聚合物溶液含有0.1至2％重量的嵌段共聚物。

13.根據權利要求1或2的方法，其中，所述基材選自玻璃、硅晶片、金屬板、塑料膜、以及涂覆在玻璃板或硅晶片上的塑料膜。

14.根據權利要求1或2的方法，其中，所述基材是多孔的。

15.根據權利要求1或2的方法，其中，所述退火在包含二氯甲烷的溶劑蒸氣存在下進行。