[發明專利]提高光學指紋識別性能的方法

有效

• 申請號: 201510406910.4
• 申請日: 2015-07-13
• 公開（公告）號: CN104992158B
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發明（設計）人: 趙立新;楊慎杰
• 申請（專利權）人: 格科微電子(上海)有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種提高光學指紋識別性能的方法，其特征在于，包括：

發出光線并照射手指指紋；

照射手指指紋形成的指紋圖像傳輸至圖像傳感器單元陣列；

提供位于所述圖像傳感器單元陣列上部的透鏡陣列，所述透鏡陣列的厚度為0.3毫米至3毫米之間，所述透鏡陣列的透鏡單元分別對應于圖像傳感器單元；相鄰的圖像傳感器單元之間間隔5至10倍的圖像傳感器單元的寬度；在對應圖像傳感器單元區域形成透鏡單元保證光線的有效導入，在非圖像傳感器單元區域形成擋光層，有效防止光線的串擾，及不合理光線的進入圖像傳感器單元；

通過校準單元，對圖像傳感器單元分別獲取的指紋圖像數據的不一致性進行校準，提高光學指紋識別性能；所述校準單元為：設置于圖像傳感器單元陣列的非易失性存儲器，采用算法補償的方式校準。

2.根據權利要求1所述的提高光學指紋識別性能的方法，其特征在于，采用灰度色調工藝或半色條工藝形成透鏡陣列，所述透鏡陣列位于遠離圖像傳感器單元陣列的一面上，在非透鏡單元區域形成光欄。

3.根據權利要求2所述的提高光學指紋識別性能的方法，其特征在于，提供玻璃基板；于玻璃基板的一面形成黃色的光刻膠，顯影形成若干凹槽；噴涂覆蓋光刻膠及凹槽形成透明層，于凹槽底部形成透鏡單元區域；于凹槽側壁及凹槽外部表面形成黑色的擋光層。

4.根據權利要求2所述的提高光學指紋識別性能的方法，其特征在于，設置位于所述透鏡陣列的周邊的光線發射模塊，適于提供光線。

5.根據權利要求4所述的提高光學指紋識別性能的方法，其特征在于，所述光線通過位于透鏡陣列上部的光學玻璃照射手指指紋，并將指紋圖像傳輸至透鏡陣列。

6.根據權利要求5所述的提高光學指紋識別性能的方法，其特征在于，所述光學玻璃的厚度為100微米至1000微米之間。

7.根據權利要求6所述的提高光學指紋識別性能的方法，其特征在于，所述的光學玻璃感應手指指紋的電容效應，判斷手指指紋的生物特征。

8.根據權利要求1所述的提高光學指紋識別性能的方法，其特征在于，所述圖像傳感器單元陣列呈N行×M列的陣列式排布，其中N為大于或者等于1的自然數，M為大于或者等于1的自然數，并且N和M不同時等于1。