[發明專利]校準掃描透射帶電粒子顯微鏡的方法

有效

• 申請號: 201510403896.2
• 申請日: 2015-07-10
• 公開（公告）號: CN105261544B
• 公開（公告）日: 2017-08-18
• 發明（設計）人: M.T.奧特坦;A.A.M.科克;M.維海詹
• 申請（專利權）人: FEI公司
• 主分類號: H01J37/28
• 分類號: H01J37/28;H01J37/26
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 申屠偉進,陳嵐

1.一種校準掃描透射帶電粒子顯微鏡的方法，所述掃描透射帶電粒子顯微鏡包括：

標本支架，用于支撐標本；

源，用于產生帶電粒子的射束；

照明器，用于引導所述射束以照射標本；

成像系統，用于將穿越標本的帶電粒子引導到檢測器上；

掃描裝置，用于使所述射束相對于標本的表面經受掃描運動，

所述顯微鏡能夠被操作于：

非掃描模式，在該模式，所述射束相對較粗并且所述檢測器在不調用所述掃描裝置的情況下形成圖像；或

掃描模式，在該模式，所述射束相對較細并且所述檢測器積累作為所述射束的掃描位置的函數的圖像，

所述校準方法包括：

在所述標本支架上提供校準標本；

在非掃描模式下，使用所述成像系統的給定配置，使用所述檢測器形成校準標本的校準圖像；

使用所述校準標本的已知尺度并且將它與所述校準圖像中的對應尺度進行比較以校準所述檢測器的視場的特性尺度；

在掃描模式下，在所述檢測器的經校準的視場中記錄所述射束的射束圖案，并且檢查所記錄的射束圖案以獲得其幾何參數。

2.如權利要求1所述的方法，其中從包括像素尺寸、邊長、對角線長度、直徑、場標記的尺度及其組合的組選擇所述檢測器的視場的所述特性尺度。

3.如權利要求1所述的方法，其中：

所述射束圖案包括沿給定方向的線性區域；

所述幾何參數是所述線性區域的長度。

4.如權利要求1所述的方法，其中：

所述射束圖案包括沿第一方向的第一線性區域和沿第二方向的第二線性區域；

從包括下面各項的組選擇所述幾何參數：

所述第一和第二線性區域的長度比；

所述第一和第二線性區域之間的角度。

5.如權利要求1所述的方法，其中：

所述射束圖案包括布置在所述經校準的視場中的不同坐標位置處的測試圖形的陣列；

所述幾何參數是作為所述視場中的位置的函數測量的失真。

6.如權利要求5所述的方法，其中從包括移動、旋轉、縮放、剪切、歪斜及其組合的組選擇所述失真。

7.如權利要求1所述的方法，其中所述校準標本包括晶體，并且所述已知尺度是晶體的晶格長度。

8.一種帶電粒子顯微鏡，包括：

標本支架，用于支撐標本；

源，用于產生帶電粒子的射束；

照明器，用于引導所述射束以照射標本；

成像系統，用于將穿越標本的帶電粒子引導到檢測器上；

掃描裝置，用于使所述射束相對于標本的表面經受掃描運動，

控制器，用于執行控制命令，

所述顯微鏡能夠被操作于：

非掃描模式，在該模式，所述射束相對較粗并且所述檢測器在不調用所述掃描裝置的情況下形成圖像；或

掃描模式，在該模式，所述射束相對較細并且所述檢測器積累作為所述射束的掃描位置的函數的圖像；以及

其中所述控制器被編程為執行下面的步驟：

在非掃描模式下，使用所述成像系統的給定配置，使用所述檢測器形成校準標本的校準圖像；

使用所述校準標本的已知尺度并且將它與所述校準圖像中的對應尺度進行比較以校準所述檢測器的視場的特性尺度；

在掃描模式下，在所述檢測器的經校準的視場中記錄所述射束的射束圖案，并且檢查所記錄的射束圖案以獲得其幾何參數。

9.如權利要求8所述的帶電粒子顯微鏡，其中所述射束圖案包括布置在所述經校準的視場中的不同坐標位置處的測試圖形的陣列；并且

所述幾何參數是作為所述視場中的位置的函數測量的失真。

10.如權利要求9所述的帶電粒子顯微鏡，其中從包括移動、旋轉、縮放、剪切、歪斜及其組合的組選擇所述失真。

11.如權利要求8所述的帶電粒子顯微鏡，其中所述校準標本包括晶體，并且所述已知尺度是晶體的晶格長度。

12.如權利要求8所述的帶電粒子顯微鏡，其中所述射束圖案包括沿給定方向的線性區域；并且

所述幾何參數是所述線性區域的長度。