[發明專利]基于等離子體磁場推進的金屬粉末噴射裝置

有效

• 申請號: 201510403821.4
• 申請日: 2015-07-08
• 公開（公告）號: CN104947102B
• 公開（公告）日: 2017-04-19
• 發明（設計）人: 方攸同;何磊杰;梁斯莊;黃曉艷;馬吉恩;張健;劉嘉斌;周晶
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: C23C24/04
• 分類號: C23C24/04;B23K28/00
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司33200
• 代理人: 林超

1.一種基于等離子體磁場推進的金屬粉末噴射裝置，其特征在于：包括進料裝置（1）、永磁體（2）、硅鋼片（3）、保護套（4）和電極（5），進料裝置（1）中裝有經過研磨的精細金屬粉末并充滿有用于產生等離子體的氣體；進料裝置（1）的出口連接到由保護套（4）所包圍的噴射通道，位于噴射通道的兩側均設有電極（5），兩側的電極（5）之間形成內部電場區域；永磁體（2）夾于上下硅鋼片（3）之間，并包裹在保護套（4）外，形成外部磁場區域，電極（5）產生內部強電場，保護套位于由永磁體（2）和硅鋼片（3）構成的外部磁場區域及電極（5）產生的內部電場區域之間。

2.根據權利要求1所述的一種基于等離子體磁場推進的金屬粉末噴射裝置，其特征在于：所述永磁體（2）與兩側的電極（5）均在同一平面上，使得施加在電極上電流所產生的磁場方向與永磁體產生的磁場方向為順磁方向。

3.根據權利要求1所述的一種基于等離子體磁場推進的金屬粉末噴射裝置，其特征在于：所述上下硅鋼片（3）的內側面均設有突出的梯形凸條，保護套（4）定位在上下硅鋼片（3）的梯形凸條之間。

4.根據權利要求1所述的一種基于等離子體磁場推進的金屬粉末噴射裝置，其特征在于：所述的精細金屬粉末為經研磨后顆粒直徑不大于0.1mm的金屬粉末。

5.根據權利要求1所述的一種基于等離子體磁場推進的金屬粉末噴射裝置，其特征在于：所述的永磁體（2）采用釹鐵硼或釤鈷，用于產生噴射通道中的外部磁場。

6.根據權利要求1所述的一種基于等離子體磁場推進的金屬粉末噴射裝置，其特征在于：所述的電極（5）是石墨電極，用于激發氣體電離產生等離子體。

7.根據權利要求6所述的一種基于等離子體磁場推進的金屬粉末噴射裝置，其特征在于：所述的用于產生等離子體的氣體是還原性氣體或者惰性氣體。

8.根據權利要求7所述的一種基于等離子體磁場推進的金屬粉末噴射裝置，其特征在于：所述的惰性氣體采用氦氣。

9.根據權利要求7所述的一種基于等離子體磁場推進的金屬粉末噴射裝置，其特征在于：所述的還原性氣體采用氮氣。