[發明專利]一種圖案轉印模板及其制備方法有效
| 申請號: | 201510384986.1 | 申請日: | 2015-07-05 |
| 公開(公告)號: | CN104943433B | 公開(公告)日: | 2017-07-21 |
| 發明(設計)人: | 林志蘋 | 申請(專利權)人: | 林志蘋 |
| 主分類號: | B41N1/24 | 分類號: | B41N1/24;B41N3/03 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 315000 浙江省寧波市江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 圖案 印模 及其 制備 方法 | ||
1.一種圖案轉印模板,包括基座、制冷臺、基底、二氧化鈦薄膜、親水區、疏水區、冰塊,其特征在于:所述的制冷臺安裝在基座上,基底安裝在制冷臺上;所述的二氧化鈦薄膜位于基底上,且二氧化鈦薄膜上存在著圖案化的親水區和疏水區,冰塊位于親水區上;
所述的圖案轉印模板的制備方法如下:
步驟1:采用磁控濺射的方法制備二氧化鈦薄膜,將基底放入磁控濺射的腔體內,靶材選擇為二氧化鈦靶材,將真空氣壓抽到10-4~10-5 Pa,按照氬氣:氧氣=1~10:1的比例向真空腔室內通入氬氣和氧氣的混合氣體,使得真空腔室的氣壓在0.1~2 Pa,基底的溫度設置為200到600度,啟動磁控濺射的電源,在基底上沉積二氧化鈦薄膜;
步驟2:從磁控濺射的腔體內取出沉積有二氧化鈦薄膜的基底,將基底安裝在制冷臺上;
步驟3:在二氧化鈦薄膜的四角放置墊片,墊片的兩面粘有雙面膠,采用圖案化的玻璃掩模板,將圖案化的玻璃掩模板放置在墊片上;
步驟4:紫外光通過圖案化的玻璃掩模板照射二氧化鈦薄膜,在二氧化鈦薄膜表面形成圖案化的親水區和疏水區;
步驟5:采用噴霧的方式向二氧化鈦薄膜表面噴水;
步驟6:通過在二氧化鈦薄膜表面超聲或者對基座施加振動使得步驟5噴的水都分布在親水區;
步驟7:啟動制冷臺,將二氧化鈦薄膜的溫度降低到0度以下,確保親水區上的水都凝固成冰塊;
步驟8:將步驟7形成的冰塊面對著水池,通過攝像頭確保冰塊的表面與水池中的水面相接觸,通過電機拉動基座,將步驟7中的冰塊拉離水面,使得步驟7中的冰塊長大;
步驟9:經過前8個步驟即形成了圖案化的冰塊結構,該結構即為本發明的圖案轉印模板,利用該模板可以蘸取聚二甲基硅氧烷(PDMS),即可將圖案通過PDMS轉移到介質上。
2.根據權利要求1所述的一種圖案轉印模板,其特征在于:所述的二氧化鈦薄膜的厚度為0.1~1 μm。
3.根據權利要求1所述的一種圖案轉印模板,其特征在于:所述的墊片的厚度為1~100 μm。
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