[發明專利]一種頭孢曲松鈉光降解產物及其制備方法和分析檢測方法

有效

• 申請號: 201510368880.2
• 申請日: 2015-06-29
• 公開（公告）號: CN105017243B
• 公開（公告）日: 2018-06-08
• 發明（設計）人: 陸錫安;于鑫;鄒曉明;張國成;姚益
• 申請（專利權）人: 蘇州東瑞制藥有限公司
• 主分類號: C07D417/14
• 分類號: C07D417/14;G01N30/88;G01N33/15
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• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種頭孢曲松鈉光降解產物及其制備方法和分析檢測方法。本發明發現了一種新的頭孢曲松鈉光降解產物，該降解產物結構首次報道；本發明提供的所述光降解產物的制備方法簡單易行，可大量制備該降解產物；本發明提供的液相分析方法能快速檢測出所述降解產物，選擇該降解產物的最大吸收波長作為檢測波長，提高了該降解產物的檢出率，結果準確可靠；本發明提供的光降解產物可以用于頭孢曲松鈉及其制劑的有關物質檢查，進一步提高頭孢曲松鈉及其制劑的質量標準，提高其安全性和可控性。

技術領域

本發明涉及藥物技術領域，具體涉及一種頭孢曲松鈉光降解產物，以及該光降解產物的制備方法和分析檢測方法。

背景技術

頭孢曲松鈉是瑞士Roche公司1982年上市的廣譜長效抗菌素，具有很大市場份額，是第三代具有廣譜抗菌活性的頭孢菌素，用于敏感致病菌所致的下呼吸道感染、尿路、膽道感染，以及腹腔感染、盆腔感染、皮膚軟組織感染、骨和關節感染、敗血癥、腦膜炎等及手術期感染預防。頭孢曲松鈉原料藥生產廠家眾多，其化學結構如下：

該原料藥的質量標準在英國藥典、歐洲藥典、美國藥典中均有收載，雜質控制要求為：五個已知雜質A、B、C、D、E限度不超過1.0％，未知雜質限度不超過0.05％，總雜限度不超過4.0％。中國藥典2010版雜質限度要求為：單個雜質峰面積不得大于對照溶液主峰面積的0.5倍(0.5％)，各雜質峰面積的和不得大于對照溶液主峰面積的2倍(2.0％)。

五個已知雜質A、B、C、D、E化學結構如下：

國際上公認的藥品注冊要符合人用藥品注冊技術國際協調會(ICH)及EP歐洲藥典中的要求，其對藥物中的雜質進行了嚴格的規定。ICH要求申報者應對原料藥在合成、精制和儲存過程中最可能產生的那些實際存在的和潛在的雜質進行概述，該描述應對合成中的化學反應、由原料引起的雜質及可能的降解產物進行合理的、科學地評估；并且申報資料中還應對那些在原料藥中實際存在的表觀量大于或等于0.05％(每日最大劑量大于2g)的雜質結構特征進行描述。

可能的降解產物可通過破壞性試驗和穩定性試驗進行評估。但是，現有的頭孢曲松鈉質量標準中，有關物質的液相分析方法洗脫強度較弱，可能并不能將降解產物都分離檢測出來。這些漏檢出的降解產物無疑降低了頭孢曲松鈉的質量，如不對這些降解產物加以嚴格控制，可能會對人體產生嚴重的毒副作用。

發明內容

為了克服上述缺陷，本發明采用洗脫強度高的洗脫劑對頭孢曲松鈉的破壞性試驗樣品和穩定性試驗樣品進行分析，在光破壞樣品中發現了一種新的降解產物，該降解產物在穩定性試驗長期6個月未避光樣品中開始檢測到，且含量隨時間增高，長期18月時達0.05％。因此：

本發明的第一目的在于提供一種新的頭孢曲松鈉光降解產物；

本發明的第二目的在于提供所述光降解產物的制備方法；

本發明的第三目的在于提供所述光降解產物的分析檢測方法；

本發明的第四目的在于提供所述光降解產物在頭孢曲松鈉及其制劑的有關物質檢查項中作為雜質對照品的用途。

上述目的是通過如下技術方案實現的：

一種頭孢曲松鈉光降解產物，化學結構如下，

一種所述光降解產物的制備方法，包括如下步驟：

(1)光照破壞樣品制備：將頭孢曲松鈉原料藥光照破壞，先經冷白熒光燈照射，再經紫外熒光燈照射；

(2)降解產物富集：將上述光照破壞樣品溶于甲醇體積百分濃度為60％～90％的甲醇-水溶液中，攪拌，抽濾，收集濾液，減壓濃縮得濃縮物；