[發明專利]一種介電泳粒子分選微流控芯片有效
| 申請號: | 201510362444.4 | 申請日: | 2015-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN104923322A | 公開(公告)日: | 2015-09-23 |
| 發明(設計)人: | 李姍姍;閆姿姿;李銘浩;張明航;戴士杰;李鐵軍 | 申請(專利權)人: | 河北工業大學 |
| 主分類號: | B01L3/00 | 分類號: | B01L3/00 |
| 代理公司: | 天津翰林知識產權代理事務所(普通合伙) 12210 | 代理人: | 李濟群 |
| 地址: | 300401 天津市紅橋區*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電泳 粒子 分選 微流控 芯片 | ||
1.一種介電泳粒子分選微流控芯片,其特征在于所述微流控芯片包括平面電極層、微通道層和控制層;所述控制層位于微通道層之上,所述微通道層位于平面電極層之上;
所述平面電極層包括電極襯底、平面電極和接線區;所述平面電極沉積于電極襯底上;所述接線區一端與平面電極連接,另一端外接電源;
所述微通道層包括微通道和微通孔;所述微通孔包括鍍液入口、鍍液出口、分選溶液進樣口和分選溶液出樣口;所述微通道包括鍍液微通道和分選溶液微通道;所述鍍液微通道上配置有鍍液電磁閥工位,所述分選溶液微通道上配置有分選溶液電磁閥工位;所述鍍液微通道通過常規鍍層技術鍍層形成鍍層區域;所述鍍層區域具有鍍層電極,鍍層電極與通電后的平面電極一起形成閉合的非勻強電場區域;
所述控制層包括控制層襯底、鍍液電磁閥、分選溶液電磁閥和形變控制電磁閥;所述控制層襯底的作用是為鍍液電磁閥、分選溶液電磁閥和形變控制電磁閥的安裝進行定位;所述鍍液電磁閥安裝于鍍液電磁閥工位上;所述分選溶液電磁閥安裝于分選溶液電磁閥工位上;所述形變控制電磁閥置于鍍層電極上,外接調節電源。
2.根據權利要求1所述的介電泳粒子分選微流控芯片,其特征在于所述微通道的深度為10~500um,寬度為20~800um。
3.根據權利要求1所述的介電泳粒子分選微流控芯片,其特征在于所述鍍液電磁閥工位和分選溶液電磁閥工位的直徑均為1~10mm。
4.根據權利要求1所述的介電泳粒子分選微流控芯片,其特征在于所述鍍層電極與平面電極之間的垂直距離為10~500um。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于河北工業大學,未經河北工業大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510362444.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





