[發明專利]一種用于真空磁控濺射鉑銠合金靶材及其制備方法有效
| 申請號： | 201510352215.4 | 申請日： | 2015-06-24 |
| 公開（公告）號： | CN104894525B | 公開（公告）日： | 2017-07-04 |
| 發明（設計）人： | 劉革;趙宏達;于志凱;王偉;柳泉 | 申請（專利權）人： | 沈陽東創貴金屬材料有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C22C5/04 |
| 代理公司： | 沈陽東大知識產權代理有限公司21109 | 代理人： | 梁焱 |
| 地址： | 110015 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 真空 磁控濺射 合金 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于真空磁控濺射鉑銠合金靶材，其特征在于該合金靶材按照重量百分比組成為：Pt 25.0~49.0%，Rh 50.0~74.0%，Ir 0.1~1.0%，Cr 0.1~0.5%。
2.權利要求1所述的一種用于真空磁控濺射鉑銠合金靶材的制備方法，其特征在于按照以下工藝步驟進行：
（1）按照重量百分比為Pt 25.0~49.0%，Rh 50.0~74.0%，Ir 0.1~1.0%，Cr 0.1~0.5%的化學成分準備Pt、Rh、Ir和Cr原材料，先將Pt加熱至熔化，再將Rh、Ir和Cr依次加入到熔化的Pt中攪拌，直至所有金屬熔化；
（2）將熔化的混合金屬進行精煉，精煉溫度為1950~2050℃，時間為3~5min；
（3）將精煉的金屬熔體澆注到純銅模具中，并同時通水進行水冷，獲得鉑銠合金鑄坯；
（4）將合金鑄坯依次經過熱鍛、軋制、退火、剪切和校平，得到用于真空磁控濺射鉑銠合金靶材。
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